小型電解蝕刻機設備規格齊全

從光刻機還是蝕刻機，至少可以看得出來國產芯片已經取得了非常大的成就。

中微半導體7nm蝕刻機的量產，直接邁入世界行列，5nm蝕刻機也在實驗階段。而光刻機方面已邁入22納米。

我們也相信如果光刻機與蝕刻機紛紛取得進展，也將成為如果挑戰臺積電、三星、英特爾背后大霸主的有力籌碼。至少“科技自立”下，實現芯片研發國產化、加工制造本土化。那個時候，將會造福諸如華為、小米、OV等國產手機。

1、 化學蝕刻法—用強酸或強堿溶液直接對工件未被保護部位進行化學腐蝕，這也是目前使用的一種方法，優點是蝕刻深度可深可淺，蝕刻速度很快，缺點是腐蝕液對環境有很大的污染，特別是蝕刻液不易回收。并且在生產過程中對操作工人的身體健康有害。

2、 電化學蝕刻—這是一種把工件做陽極，使用電解質通電，陽極溶解，從而達到蝕刻目的的方法，其優點在于環保方面，對環境污染很小，對操作工人的身體健康無害，缺點是蝕刻深度較小，大面積蝕刻時，電流分布不均勻，深度不易控制。

3、 激光蝕刻法—優點是線性邊沿整齊無側蝕現象，但成本很高，約為化學蝕刻法的一倍。印刷電路板行業印刷錫膏時，所用的不銹鋼絲網大多是用激光蝕刻法制作的。

目的：除去工件表面的防銹油、潤滑油、乳化液及工作人員分泌的汗漬油脂等。

成份組成：、碳酸鈉等堿性物質及十二烷基磺酸鈉等。

脫脂不完全會影響后面涂布工序中保護膜與工件的接合力，以致在蝕刻過程中保護膜脫落造成工件的損壞。

涂布感光油墨。

可以采用滿版印刷、刷涂、滾涂或噴涂的方式，對油墨涂層的均一性要求不是很高，只要能保證涂層能夠在蝕刻時對產品需保護部位得到充分的保護。