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              輕金屬微弧氧化優勢源頭直供廠家「日照微弧技術」

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              發布時間:2021-03-06 11:32  






              溫度對微弧氧化的影響

                     微弧氧化與陽極氧化不同,所需溫度范圍較寬。一般為10—90度。溫度越高,成膜越快,但粗糙度也增加。且溫度高,會形成水氣。溶液電導率:溶液電導率對微弧氧化工業鋁型材的生長速度和致密度都有影響。一般建議在20—60度。由于微弧氧化以熱能形式釋放,所以液體溫度上升較快,微弧氧化過程須配備容量較大的熱交換制冷系統以控制槽液溫度。所以微弧氧化過程中一定要控制好溫度。微弧、微弧氧化、微弧氧化技術、微弧氧化電源


              微弧氧化技術有哪些用途

                     微弧氧化技術用于常規陽極氧化不能處理的特殊鋁基合金材料的表面強化處理。例如,汽車等各車輛的鋁基活塞,活塞座,汽缸及其他鋁基零部件;機械、化工工業中的各種鋁基模具,各種鋁罐的內壁,飛機制造中的各種鋁基零部件如貨倉地板,滾棒,導軌等;以及民用工業中各種鋁基五金產品,健身器材等。微弧氧化微弧氧化又稱等離子體電解氧化、微等離子體氧化等,是通過電解液與相應電參數的組合,在鋁、鎂、鈦等金屬及其合金表面依靠弧光放電產生的瞬時高溫高壓作用,原位生長出以基體金屬氧化物為主的陶瓷膜層。微弧氧化技術、微弧氧化電源、微弧氧化生產線


                     微弧氧化產生的高溫高壓特性可使鋁合金表面氧化膜發生相轉變和結構轉變。在微弧氧化的過程下,原來生產的氧化膜不會脫落,只有表面一部分氧化膜可能會被粉化而沉淀在溶液中,脫落的表面可以繼續氧化,隨著外加電壓的升高,或時間的延長,微弧氧化膜厚度會不斷增加,直至達到外加電壓所對應的厚度。微弧氧化電源、微弧氧化生產線、微弧氧化圖片、微弧氧化技術設備。經測試,微弧氧化膜的厚度可達到200-300μm。微弧氧化技術優勢、微弧氧化設備、微弧氧化電源


              微弧氧化技術

                    在微弧氧化過程中,化學氧化、電化學氧化、等離子體氧化同時存在,因此陶瓷層的形成過程非常復雜,至今還沒有一個合理的模型能描述陶瓷層的形成。

                    微弧氧化膜層與基體結合牢固,結構致密,韌性高,具有良好的耐磨、耐腐蝕、耐高溫沖擊和電絕緣等特性。如,航空、航天、汽車、船舶、機械、石油、化工、醫用、電子等行業。微弧氧化技術具有操作簡單和易于實現膜層功能調節的特點,而且工藝不復雜,不造成環境污染,是一項全新的綠色環保型材料表面處理技術,在航空航天、機械、電子、裝飾等領域具有廣闊的應用前景。


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