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              發布時間:2020-11-02 02:11  







              用得較多的是磁控濺射、中頻濺射、直流濺射、RF濺射和離子束濺射。特征:在真空室內充入放電所需要的惰性氣體(如ya氣),在高壓電場作用下氣體分子因電離而產生大量正離子。帶電離子被強電場加速,便形成高能量的離子流轟擊蒸發源材料(稱為靶)。在離子轟擊下,蒸發源材料的原子將離開固體表面,以高速度濺射到基片上并沉積成薄膜。RF(射頻)濺射RF濺射使用的頻率約為13.56MHz,它不需要熱陰極,能在較低的氣壓和較低的電壓下進行濺射。



              電弧離子鍍陰極弧技術是在真空條件下,通過低電壓和高電流將靶材離化成離子狀態,從而完成薄膜材料的沉積,該技術材料的離化率更高,薄膜性能更加優異。過濾陰極弧過濾陰極電弧(FCA)配有gao效的電磁過濾系統,可將弧源產生的等離子體中的宏觀大顆粒過濾掉,因此制備的薄膜非常致密和平整光滑,具有抗腐蝕性能好,與機體的結合力很強。離子束離子束加工是在真空條件下,先由電子槍產生電子束,再引入已抽成真空且充滿惰性氣體之電離室中,使低壓惰性氣體離子化。由負極引出陽離子又經加速、集束等步驟,獲得具有一定速度的離子投射到材料表面,產生濺射效應和注入效應。



              具有摩擦系數較低,耐磨損,膜層應力小好等優點。用途:潤滑涂層,成型模具,鋁合金等粘結性強材料沖壓模具。⑥ZrN:ZrN不含Ti和Cr的單成膜,有較高的耐熱性,涂層顏色艷麗,在加工鋁鈦合金時可有效減少切削瘤(積屑瘤)。⑦AL(L):zui新劈裂電弧涂層,含Si納米復合涂層,極高抗熱性能,適合硬切削,納米硬度4300Hv,納米厚度1~3μm。摩擦系數0.3。zui高應用溫1200℃。加工硬度可達65HRC。用途:特適合加工淬火、鋼淬火硬鋼、不銹鋼、沉淀硬化不銹鋼。⑧MDT:zui新劈裂電弧涂層,納米厚度1-3μm,加工硬度可達58HRC。用途:特適合加工不銹鋼、鈦合金、沉淀硬化不銹鋼、銅合金、鋁合金。



              在鋅液中添加鋅鎳合金可有效地降低鋅和鐵原子在ζ相中的擴散速度,因而可以控制浸鍍層厚度的增長,當鋅液中Ni含量為0.06%時,Ni含量可達0.8%,加入Ni后厚度增長明顯得到控制,因而可有效地控制浸鍍層厚度的增長,并能改善鋅液的流動性能。因此,使用鋅鎳合金進行熱浸鍍鋅的鍍層厚度更加均勻,表面更光亮,鋅花少。

              總之,熱鍍鋅后帶鋼表面缺陷情況較復雜,產生的原因也較多,解決辦法是多方面的,需要做大量艱若細致的工作,使熱鍍技木提高一步。


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