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氧化鎂處理氨氮廢水的機理

氧化鎂是金屬氧化物，溶于水后會生成難溶解的沉淀物氫氧化鎂。在氨氮廢水中，NH4 與Mg(OH)2中的OH-離子結合生成NH3，并在攪拌或曝氣的情況下，氨氮以NH3的形式排出廢水，從而達到除去氨氮的目的。

其次，氧化鎂在其中還起到堿性的作用。MgO H2O?Mg(OH)2 Mg(OH)2 NH4 ?NH3↑ H2O Mg2 攪拌或曝氣，使得NH3從廢水中脫離出來，平衡向正方向進行，繼而MgO溶解，達到除去氨氮的目的。

此外，溫度也是影響反應的一個因素。隨著溫度的升高，氣體的溶解度降低，所以氣溫高更有利于氨氣的揮發。

①　加入氧化鎂，利用攪拌來處理氨氮廢水的效果比相同條件下使用曝氣處理的效果差。

②　氧化鎂處理氨氮廢水的效果隨著溫度的升高而增強。

③　在常溫下，氨氮廢水中氨氮的去除率隨加入氧化鎂使用量的增加而升高，隨曝氣時間的增長而升高。當加入氧化鎂量為2g/L，曝氣時間為2h是氨氮去除率達到99.66%，氨氮去除效果明顯。

根據用途，氧化鎂可以分為活性氧化鎂、膠塞專用氧化鎂、硅鋼氧化鎂、電熔氧化鎂；根據純度及其他特性，氧化鎂可以分為工業氧化鎂、高純氧化鎂、重質氧化鎂、納米氧化鎂、煅燒氧化鎂和氧化鎂晶須等多種種類。

其次，將純堿、碳銨做沉淀劑，采用濕法制取氧化鎂時的產物為堿式碳酸鎂。堿式碳酸鎂分為很多種，根據用途可以分成食品級堿式碳酸鎂、醫yao用堿式碳酸鎂、電子級堿式碳酸鎂等；白色粉末（淡黃色為），無臭、無味、，是典型的堿土金屬氧化物，化學式MgO。根據不同的形狀，可以分為塊狀堿式碳酸鎂、針形堿式碳酸鎂、無定形堿式碳酸鎂、透明輕質堿式碳酸鎂等。堿式碳酸鎂經過煅燒分解，脫去結晶水，并分解出CO2，根據煅燒溫度與時間的不同，生成不同活性與粒徑及其他物理特性的氧化鎂產品。

通常，氧化鎂在CaO-Al2O3-SiO2-MgO渣系中的溶解包括直接溶解與間接溶解兩種方式。在間接溶解的過程中，氧化鎂的周圍會形成環狀鎂鋁尖晶石產物層。其中，產物層向爐渣本體的擴散成為氧化鎂溶解的限制環節。

爐渣堿度的提升可以增加氧化鎂在渣系中的溶解速率。增加堿度一方面會降低爐渣的黏度；氧化鎂起到穩定的作用首先氧化鎂在混煉時候加入進去可起到穩定的作用，可防止加工中產生焦燒，并且改進膠料在儲藏過程中的焦燒，并且在塑煉時，還具有塑化橡膠的作用。另一方面，未發現環狀鎂鋁尖晶石產物層的堿度渣系中，氧化鎂的溶解阻礙作用降低，溶解速率加快。其次，提高溫度也會促進氧化鎂的溶解。主要原因在于溫度的升高會導致渣系黏度的降低，溶解動力學條件得到改善，會加快產物相的外擴散的傳質。

氧化鎂在硅鋼中的具體使用

　　取向硅鋼在連續爐中進行脫碳退火后，需要在帶鋼的上表面和下表面均勻涂覆氧化鎂涂液。氧化鎂主要起隔離劑的作用，以防止帶鋼在高溫退火階段粘連，同時可以除去鋼中氮、硫等雜質，此外還要與硅鋼表面的二氧化硅反應，形成優良的硅酸鎂絕緣底層。因此，氧化鎂涂液在取向硅鋼表面的涂覆質量對硅鋼產品的質量起著至關重要的作用。其中氧化鎂法濕式煙氣脫硫技術就是比較經濟實用并且具有良好市場前景的一種脫硫方式。                                                          

　　目前，氧化鎂涂液是通過兩輥式涂層機來進行涂覆。該兩輥式涂層機包括上涂層輥、下涂層輥、托盤、氧化鎂涂液循環裝置、及將氧化鎂涂液循環裝置中的氧化鎂涂液噴射至帶鋼上表面的噴管;該下涂層輥浸在托盤內，噴管噴射到帶鋼上表面的氧化鎂涂液溢流后進入到托盤內，該下涂層輥利用托盤內的氧化鎂涂液進行帶鋼下表面的涂覆。隨著納米材料技術的發展，一種新型的無機材料——納米氧化鎂也迅速發展起來。

　　然而，由于氧化鎂涂液在涂覆循環使用過程中,托盤內的氧化鎂溶液流動不暢,氧化鎂與水反應形成氫氧化鎂沉淀，氫氧化鎂與空氣中的二氧化碳結合后生成易沉淀的碳酸鎂。碳酸鎂和氫氧化鎂流動性很差，容易產生團聚沉積現象。因此，托盤內涂液流動性不高，隨著時間的推移，涂液容易產生堆積結垢，造成下涂層輥涂覆質量差，沿帶鋼軋向板面批量出現寬窄、數量不等的雙線條，且磨損下涂層輥，直接造成產品質量缺陷。嚴重時還需要停機更換涂層輥、清理循環管道堵塞、處理托盤結垢等。3，在碼垛后放置石灰塊防潮，這是另一種防止氧化鎂吸潮和防止降低活性的方法。