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              真空鍍膜系統(tǒng)報(bào)價(jià)信息推薦,艾明坷科技公司

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              發(fā)布時(shí)間:2020-11-06 12:40  






              ST系列鍍膜機(jī)

              ST系列鍍膜機(jī)系我司標(biāo)準(zhǔn)化產(chǎn)品,滿足大部分實(shí)驗(yàn)室科研需求,豐富的可選配置也可響應(yīng)您的特殊需要。特點(diǎn):1、集成一體化結(jié)構(gòu)。

              2、極限真空度高,可達(dá)7×10-5Pa,可保證更高的鍍膜純凈度,提高鍍膜質(zhì)量。

              3、從大氣到工作背景真空(7×10-4Pa)時(shí)間短,30分鐘左右(充干燥氮?dú)猓?系統(tǒng)停泵關(guān)機(jī)12小時(shí)后真空度:≤8Pa。

              4、整機(jī)采用柜式結(jié)構(gòu),密封性能好,防塵防水,安全。

              5、磁控、熱蒸發(fā)多種鍍膜方式可選。

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              真空鍍膜技術(shù)的應(yīng)用領(lǐng)域

              在平板顯示器中

              所有各類平板顯示器都要用到各種類型的薄膜,而且,幾乎所有類型的平板顯示器件都需要使用ITO膜,以滿足透明電器的要求。可以毫不夸張的說(shuō),沒(méi)有薄膜技術(shù),就沒(méi)有平板顯示器件。

              在太陽(yáng)能利用方面

              當(dāng)需要有效地利用太陽(yáng)熱能時(shí),就要考慮采用對(duì)太陽(yáng)光線吸收較多、而對(duì)熱輻射等所引起的損耗較小的吸收面。因而,泵的工作點(diǎn)應(yīng)該選在這個(gè)范圍之內(nèi)較為適宜,而不能讓它在25~30mmHg下長(zhǎng)期工作。太陽(yáng)光譜的峰值大約在波長(zhǎng)為2-20μm之間的紅外波段。由于太陽(yáng)輻射與熱輻射光譜在波段上有差異,因此,為了有效地利用太陽(yáng)熱能,就必須考慮采用具有波長(zhǎng)選擇特性的吸收面。

              理想的選擇吸收面,是太陽(yáng)輻射光譜的波段(可見(jiàn)光波段)吸收率(α)為1,在熱輻射波段(紅外波段)輻射率(ε)為0。

              在防偽技術(shù)中

              防偽膜種類很多,從使用方法可分為反射式和透射式;從膜系附著方式可以分為直接鍍膜式、間接鍍膜式或間接鍍膜剪貼式。

              在飛機(jī)防護(hù)涂層方面

              飛機(jī)的鈦合金緊固件,原來(lái)采用電鍍方法鍍鎘。但在鍍鎘中含有氫,所以在飛行過(guò)程中,受到大氣、海水的腐蝕,鍍層上容易產(chǎn)生“鎘脆”,甚至引起“空難”。

              1964年,采用離子鍍方法在鈦合金緊固件上鍍鋁,解決了飛機(jī)零件的“鎘脆”問(wèn)題。在離子鍍技術(shù)中,由于給工件施加負(fù)偏壓,可以形成“偽擴(kuò)散層”、細(xì)化膜層組織,因此,可以顯著提高膜層的耐腐蝕性能。

              在光學(xué)儀器中

              人們熟悉的光學(xué)儀器有望遠(yuǎn)鏡、顯微鏡、照相機(jī)、測(cè)距儀,以及日常生活用品中的鏡子、眼鏡、放大鏡等,它們都離不開(kāi)鍍膜技術(shù),鍍制的薄膜有反射膜、增透膜和吸收膜等幾種。

              在信息存儲(chǔ)領(lǐng)域中

              薄膜材料作為信息記錄于存儲(chǔ)介質(zhì),有其得天獨(dú)厚的優(yōu)勢(shì):

              由于薄膜很薄,可以忽略渦流損耗;磁化反轉(zhuǎn)極為迅速;與膜面平行的雙穩(wěn)態(tài)狀態(tài)容易保持等。

              為了更精密地記錄與存儲(chǔ)信息,必然要采用鍍膜技術(shù)。

              在傳感器方面

              在傳感器中,多采用那些電氣性質(zhì)相對(duì)于物理量、化學(xué)量及其變化來(lái)說(shuō),極為敏感的半導(dǎo)體材料。此外,其中,大多數(shù)利用的是半導(dǎo)體的表面、界面的性質(zhì),需要盡量增大其面積,且能工業(yè)化、低價(jià)格制作,因此,采用薄膜的情況很多。

              在集成電路制造中

              晶體管路中的保護(hù)層(SiO2、Si3N4)、電極管線等,多是采用CVD技術(shù)、PVCD技術(shù)、真空蒸發(fā)金屬技術(shù)、磁控濺射技術(shù)和射頻濺射技術(shù)。可見(jiàn),氣相沉積是制備集成電路的核心技術(shù)之一。




              真空鍍膜機(jī)鍍制薄膜不均勻的解決方法


              制的薄膜的均勻性都會(huì)受到某種因素影響。也許很多人都認(rèn)為,設(shè)備只要正常運(yùn)轉(zhuǎn)就可以了,搞得再干凈也是做表面工作。真空狀態(tài)需要抽氣系統(tǒng)來(lái)控制的,每個(gè)抽氣口都要同時(shí)開(kāi)動(dòng)并力度一致,這樣就可以控制好抽氣的均勻性,如果抽氣不均勻,在真空室內(nèi)的壓強(qiáng)就不能均勻了,壓強(qiáng)對(duì)離子的運(yùn)動(dòng)是存在一定的影響的。另外抽氣的時(shí)間也要控制,太短會(huì)造成真空度不夠,但太長(zhǎng)又浪費(fèi)資源,不過(guò)有真空計(jì)的存在,要控制好還是不成問(wèn)題的。



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