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              上海PVD離子鍍膜設(shè)備在線咨詢(xún)【至成真空科技】

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              發(fā)布時(shí)間:2020-12-30 07:42  









              真空鍍膜機(jī)真空器件的常用檢漏方法

              真空鍍膜機(jī)真空器件的常用檢漏方法 依據(jù)電真空器材的結(jié)構(gòu)特色及丈量精度要求,常用的有兩種檢漏辦法,即氦罩法和噴吹法(這兩種檢漏辦法具體介紹可見(jiàn):氦罩法和噴吹法的氦質(zhì)譜檢漏儀檢漏常見(jiàn)辦法)。檢漏時(shí),先用氦罩法進(jìn)行總漏率的測(cè)定,當(dāng)總漏率超出答應(yīng)值后再用噴吹法進(jìn)行漏孔的認(rèn)位。 氦罩法是被檢件與檢漏儀銜接抽真空到達(dá)檢漏狀況后,用一個(gè)充溢氦氣的查驗(yàn)罩,把被檢件全體或部分的表面面包圍起來(lái),如圖4所示。查驗(yàn)罩充氦時(shí)先將罩內(nèi)空氣排出再充氦,以確保罩內(nèi)氦濃度盡可能挨近100百分之,被檢件上任何地方有走漏。 檢漏儀都會(huì)有漏率值改變,顯示出漏率值。氦罩時(shí)刻也要繼續(xù)3~5倍檢漏儀呼應(yīng)時(shí)刻。ASM192T2氦質(zhì)譜檢漏儀反應(yīng)時(shí)刻小于0.5s,因而氦罩時(shí)刻30s即可。氦罩法可方便地測(cè)定被檢件總漏率,不會(huì)漏掉任何一處漏點(diǎn),但不能確認(rèn)漏孔方位。 噴吹法是將被檢件與儀器的真空體系相連,對(duì)被檢件抽真空后用噴槍向漏孔處吹噴氦氣。當(dāng)有漏孔存在時(shí),氦氣就經(jīng)過(guò)漏孔進(jìn)入質(zhì)譜儀被檢測(cè)出,噴吹法彌補(bǔ)了氦罩法不能定位的缺點(diǎn)。


              空鍍膜設(shè)備廠家分析保護(hù)環(huán)境的意義

              空鍍膜設(shè)備廠家分析真空鍍膜設(shè)備保護(hù)環(huán)境的意義 真空鍍膜設(shè)備對(duì)于環(huán)境也是有著非常重要的意義,所以市場(chǎng)對(duì)于真空鍍膜設(shè)備的使用率非常高,下面真空鍍膜設(shè)備廠家分析保護(hù)環(huán)境的意義。 真空鍍膜設(shè)備在電鍍中的應(yīng)用,可以?xún)?yōu)先改善全球污染狀況,告別化學(xué)鍍膜使用的缺點(diǎn)。在真空環(huán)境下,蒸發(fā)鍍膜不產(chǎn)生任何污染和其他無(wú)害物質(zhì),是一種綠色低碳的可持續(xù)發(fā)展。隨著社會(huì)的發(fā)展,許多企業(yè)開(kāi)始使用這種真空鍍膜設(shè)備,提高了環(huán)保意識(shí)和環(huán)保意識(shí)。那么,發(fā)展綠色產(chǎn)業(yè)是一個(gè)永恒的發(fā)展趨勢(shì)。該真空鍍膜設(shè)備的技術(shù)也帶領(lǐng)了電鍍行業(yè)的主流。 因此真空鍍膜機(jī)鍍膜時(shí),膜層的好壞,氣體啟著關(guān)鍵性的作用,是鍍膜環(huán)節(jié)不可或缺的一步。


              真空鍍膜機(jī)中鎢絲的注意事項(xiàng)

              真空鍍膜機(jī)中鎢絲的注意事項(xiàng): 鎢在常溫下有較好的耐酸、堿能力,但在潮濕的空氣中易被氧化,所以細(xì)鎢絲不能在潮濕環(huán)境中貯存過(guò)久。另外鎢在1200℃上下就開(kāi)始與碳起反應(yīng)生成鎢的碳化物,所以對(duì)燈絲的燒氫處理要注意這個(gè)問(wèn)題,否則鎢與其表面的石墨潤(rùn)滑劑起反應(yīng),則燈絲就要變脆斷裂。 鎢絲一旦經(jīng)高溫使用發(fā)生再結(jié)晶以后就變得很脆,在受沖擊或震動(dòng)的情況下極易斷裂。在一些要求高可靠性的電光源產(chǎn)品中,為防止燈絲的斷裂,常在摻雜鎢絲中加入3~5%的錸,稱(chēng)為鎢錸絲,它可以使鎢的延脆轉(zhuǎn)變溫度下降到室溫或室溫以下。這是一種很奇特的錸效應(yīng),至今還未發(fā)現(xiàn)一種元素能代替錸,在鎢中產(chǎn)生同樣效應(yīng)。


              光學(xué)鍍膜機(jī)對(duì)于單片膜色不均勻產(chǎn)生的原因

              光學(xué)鍍膜機(jī)對(duì)于單片膜色不均勻產(chǎn)生的原因 光學(xué)鍍膜機(jī)主要是由于基片凹凸嚴(yán)重,與傘片曲率差異較大,基片上部、或下部法線與蒸發(fā)源構(gòu)成的蒸發(fā)角差異較大。造成一片鏡片上各部位接受膜料的條件差異大,形成的膜厚差異大。 另外鏡片被鏡圈()邊緣部遮擋、鏡圈()臟在蒸鍍時(shí)污染鏡片等等也會(huì)造成膜色差異問(wèn)題。 改善思路:改善鏡片邊緣的蒸發(fā)角。 改善對(duì)策: ㈠ 條件許可,用行星夾具; ㈡ 選用傘片平坦(R大)的機(jī)臺(tái); ㈢ 根據(jù)傘片孔位分布,基片形狀,制作專(zhuān)門(mén)的鋸齒形修正板。 ㈣ 如果有可能,把蒸發(fā)源往真空室中間移動(dòng),也可改善單片的膜色均勻性。 ㈤ 改善鏡圈(),防止遮擋。 ㈥ 注意旋轉(zhuǎn)傘架的相應(yīng)部位對(duì)邊緣鏡片的部分遮擋 ㈦ 清潔鏡圈() ㈧ 改善膜料蒸發(fā)狀況。


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