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光學鍍膜材料真空應用領域

真空鍍膜是真空應用領域的一個重要方面，它是以真空技術為基礎，利用物理或化學方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術，為科學研究和實際生產提供薄膜制備的一種新工藝。簡單地說，在真空中把金屬、合金或化合物進行蒸發或濺射，使其在被涂覆的物體（稱基板、基片或基體）上凝固并沉積的方法，稱為真空鍍膜。

眾所周知，在某些材料的表面上，只要鍍上一層薄膜，就能使材料具有許多新的、良好的物理和化學性能。在物體表面上鍍膜的方法主要有電鍍法和化學鍍法。前者是通過通電，使電解液電解，被電解的離子鍍到作為另一個電極的基體表面上，因此這種鍍膜的條件，基體必須是電的良導體，而且薄膜厚度也難以控制。后者是采用化學還原法，必須把膜材配制成溶液，并能迅速參加還原反應，這種鍍膜方法不僅薄膜的結合強度差，而且鍍膜既不均勻也不易控制，同時還會產生大量的廢液，造成嚴重的污染。因此，這兩種被人們稱之為濕式鍍膜法的鍍膜工藝受到了很大的限制。

今天至成真空小編，就為大家詳細的介紹一下DLC真空鍍膜機的運用領域和大概分哪些種類，這樣能幫助大家對DLC真空鍍膜機有一個全新的認識。

金剛石膜(DLC)真空鍍膜設備主要是（集）直流磁控濺射，中頻濺射和電弧離子蒸發三種技術融合一體，結合線性離化源及脈沖偏壓鍍膜可使沉積顆粒細化膜層各項性能提高，能在金屬制品及非金屬表面鍍制合金膜、化合物膜、多層復合膜等。

DLC鍍膜設備是在中間設置真空室，在真空室的左右兩側設置左右大門，蒸發DLC鍍膜設備而在其中配裝蒸發裝置和磁控裝置，蒸發DLC鍍膜設備可在該雙門上預留該兩裝置的接口，以備需要時換裝。DLC鍍膜設備作為一種產生特定膜層的技術，在現實生產生活中有著廣泛的應用。DLC鍍膜設備技術有三種形式，即蒸發鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。

真空鍍膜機的工作原理是怎樣的?

真空鍍膜機的運用非常廣泛，涉入到各個行業，也廣受大家喜愛，那么它的工作原理是怎樣的呢？下面至成真空小編為大家詳細的介紹一下，希望能幫到大家：

真空鍍膜設備主要指需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括多弧離子真空鍍膜設備，真空離子蒸發，光學鍍膜機，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。真空鍍膜的工作原理是膜體在高溫下蒸發落在工件表面結晶。由于空氣對蒸發的膜體分子會產生阻力造成碰撞使結晶體變得粗糙無光，所以必須在高真空下才能使結晶體細密光亮，如果真空度不高結晶體就會失去光澤結合力也很差。早期真空鍍膜是依靠蒸發體自然散射，結合差工效低光澤差。現在加上中頻磁控濺射靶用磁控射靶將膜體的蒸發分子在電場的作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉積在基片上成膜，解決了過去自然蒸發無法加工的膜體品種，如鍍鈦鍍鋯等等。

引起鍍膜玻璃膜層不均勻原因多方面

二次污染造成的洗凈的玻璃在鍍膜前需經過加熱，抽真空和濺射等過程，而使玻璃再次污染，從而使玻璃鍍膜后產生。玻璃加熱過程中再污染是加熱室或濺射室不干凈，而對玻璃再污染，這些污染源主要來源于擴散泵返油、加熱室或濺射室內臟、靶玻璃材濺射產生靶灰，殘余氣體壓強高等諸多方面。因為一般的固體物質，每單位表面積上的分子數大約為10個左右，在常Pa的壓強下，每秒鐘撞表面的分子數大體上相當于覆蓋物質積的分子數。在殘余氣體壓強為10的情況下，假如以每秒一層原子左右的形成速度進行鍍膜時，則蒸發的原子和殘余氣體的分子幾乎是以相同的幾率碰撞基片。在濺射過程中在充入氣時壓強為10～10時所形成膜的速度和蒸發條件下基本相同。