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實驗室供氣系統氣體管路

實驗室供氣管路系統工程主要是為試實驗室選用的分析設備提供量值和壓力穩定的標準氣體，保證其儲存和使用的安全性。保障分析測試人員在實驗中免受有毒有害氣體的侵害。便會發生燃燒爆1炸事故因此在可燃氣體入口處、氣體鋼瓶存放間、潔凈室內使用可燃氣體處、敷設可燃氣體的管廊或技術夾層以及可能聚集可燃氣體的場所均應設置可燃氣體報警裝置。按照國標要求，將所用全部氣體存放于儲氣間，并實現集中輸送，組成中央供氣系統。系統采用一拖一、一拖多、多拖一和多拖多的管道式輸氣方式，在一拖多時能夠實現分段控制和在多拖一和多拖多時能夠實現切換控制；并能夠保證標準氣體流量、壓力穩定和量值傳遞不發生變化，滿足分析檢測設備對使用氣體的技術要求。

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特種氣體的應用

電子工業是當今推動科技發展的高新技術產業,由于所用氣體的品種多、質量要求高,為有別于其它領域應用的氣體,人們把這類在電子工業中用的氣體統稱為電子特種氣體,它是當今興起的高技術含量、高投入、高附加值的高新技術產業。如需了解更多高純供氣系統的相關信息，歡迎關注艾明坷網站或撥打圖片上的電話詢。電子行業常用的特氣超過三十余種，按危險性質可分為不燃氣體、可燃氣體、氧化性氣體、腐蝕性氣體、毒性氣體等。按照物理形態可分為壓縮氣體、液化氣體和低溫氣體。

特種氣體的應用領域主要在集成電路制造、太陽能電池、化合物半導體、液晶顯示器、光纖生產四大領域,其中主要應用于半導體集成電路的生產制造。在半導體工業中應用的有110余種單元特種氣體,其中常用的有20～30種。

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特氣系統知識分享：一般混合氣體

由兩種以上氣體混合配制而成的氣體,而且主要標出大致濃度,即可滿足使用要求,這種氣體稱為一般混合氣體。

對氣體分析儀用氣體,如含氫10%，其余是氦的混合氣以及含甲1烷5%或10%；含氫40%，其余是氮或氦的混合氣被用作氫火焰總烴檢測儀的燃料氣。

在測定放1射性物質時,使用的混合氣有下列幾種組成:含異丁烷0.95%,或含丁烷1.3%，或含丙烷1.5%，或含甲1烷5%～10%，均以氦為底氣。

深海呼吸用含氧20%～60%,其余是氮或氦的混合氣。激光用氣含CO24%～16%,N210%～25%，其余是氦。

光化學反應、動植物實驗室和金屬腐蝕等研究用的混合氣因關系到公害問題,所以其中二氧化氮、二氧1化硫和硫1化氫等都要保持低濃度。

高純氣體的輸送管路系統

隨著微電子工業的發展，超大規模集成電路制造的硅片尺寸越做越大，要求半導體制造工藝中的氣體品質相應越來越高，對氣體中雜質和露1點要求極為嚴格，需要達到ppb、ppt級，塵埃粒徑求控制小于0.1～0.05m的微粒，因此對高純氣體的輸送管路系統提出了非常高的要求 。同時，當地消防規范建議甚至要求將主要的氣體源如氣瓶、杜瓦瓶和液體儲槽放置在工作區外的指1定區域，然后將氣體通過管道系統輸送至試驗室內。