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              真空鍍膜廠在線咨詢

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              發(fā)布時(shí)間:2020-08-11 03:26  






              真空鍍膜廠武義縣恒緣鈦金廠是一家從事【uv鍍膜】【UV真空鍍膜】加工服務(wù)的廠家,主要鍍膜產(chǎn)品有不銹鋼,鐵,鋁合金,玻璃制品,塑料工藝制品等,鍍膜顏色多樣豐富,可根據(jù)客戶的產(chǎn)品進(jìn)行設(shè)計(jì)和定制。

              恒緣鈦金與您分享真空電鍍工藝中封閉性

              塑膠在成型的過程中,往往要添加一些物質(zhì),如色粉,阻燃劑,脫模時(shí)還要噴灑脫模劑,也同樣無法避免一些雜質(zhì)參雜其中,同時(shí)啤塑條件差異也使得塑膠產(chǎn)生毛細(xì)微孔,在常溫長壓的狀態(tài)下是沒辦法用肉眼觀察得到,但在真空狀態(tài)下,塑膠中含有的一些揮發(fā)性小分子子化合物,包括殘留的脫模劑就會(huì)向塑膠表面遷移,在這種狀態(tài)下,如果底漆的封閉性不好,同塑膠一樣也存在毛細(xì)微孔,殘留的小分子化合物通過這些毛細(xì)微孔對(duì)真空電鍍層進(jìn)行沖擊,一般發(fā)生在由負(fù)壓變成常壓的狀態(tài)下,在底漆和真空電鍍金屬層之間產(chǎn)生微觀隔離地帶,直接影響底漆和真空電鍍層的附著力,這種天生的附著力欠缺,在沒有進(jìn)行面漆涂裝時(shí)并沒有馬上表現(xiàn)出來,而是表現(xiàn)在涂裝面漆之后,有時(shí)后掉漆馬上出現(xiàn),有時(shí)候要等3-7天以后,應(yīng)該理解為:小分子殘留化合物需要時(shí)間通過毛細(xì)微孔,面漆的后反應(yīng)過程加長使得應(yīng)力積累慢慢增強(qiáng)。拋光利用機(jī)械、化學(xué)或電化學(xué)的方法,使工件表面粗糙度降低,以獲得光亮、平整表面的加工方法。通過底漆封閉基材,防止真空電鍍時(shí)基材中揮發(fā)性物質(zhì)遷移,影響電鍍質(zhì)量.涂層封閉性影響因素:油漆配方:固體量,流平性生產(chǎn)工藝:IR流平,UVpu光量,膜厚




              武義縣恒緣鈦金廠是一家從事【uv鍍膜】【UV真空鍍膜】加工服務(wù)的廠家,主要鍍膜產(chǎn)品有不銹鋼,鐵,鋁合金,玻璃制品,塑料工藝制品等,鍍膜顏色多樣豐富,可根據(jù)客戶的產(chǎn)品進(jìn)行設(shè)計(jì)和定制。

              恒緣鈦金與您分享真空鍍膜

              1.獲得更厚的真空電鍍層.用底漆過渡,有利于獲得更厚獲得更厚的電鍍層,使產(chǎn)品得到更高的反射效果和力學(xué)性能.

              2.附著性.對(duì)于一些極性較差的塑膠,通過底漆過渡,可以獲得電鍍層附著性.5.耐熱性.塑膠熱變形溫度一般較低,通過底漆過渡,可以起到一定的熱緩沖作用,保護(hù)塑膠免遭熱變形.

              3.流平性

              4.耐熱性推介產(chǎn)品:UV#VMBC500G真空電鍍金屬層一般只有數(shù)十至數(shù)百納米,耐磨抗劃傷性能較差,同時(shí)真空電鍍金屬層暴露在空氣中很容易氧化,從而失去光澤,故,真空電鍍完成后,一般還需要噴涂一層面漆,既起到保護(hù)的作用,有起到裝飾性的作用。

              恒緣鈦金與您分享鍍膜工藝之不銹鋼的7種表面處理

              1 PVD工藝

              PVD物理氣相沉積:指利用物理過程實(shí)現(xiàn)物質(zhì)轉(zhuǎn)移,將原子或分子由源轉(zhuǎn)移到基材表面上的過程。切削高光的亮度受銑削鉆頭速度的影響,鉆頭速度越快切削的高光越亮,反之則越暗并容易產(chǎn)生刀紋。它的作用是可以使某些有特殊性能(強(qiáng)度高、耐磨性、散熱性、耐腐性等)的微粒噴涂在性能較低的母體上,使得母體具有更好的性能。 PVD基本方法:真空蒸發(fā)、濺射 、離子鍍(空心陰極離子鍍、熱陰極離子鍍、電弧離子鍍、活性反應(yīng)離子鍍、射頻離子鍍、直流放電離子鍍)。

              iPhone X不銹鋼加PVD工藝的順利量產(chǎn),標(biāo)志著不銹鋼加塑膠中框PVD技術(shù)方案已經(jīng)成熟,為手機(jī)廠商表面處理方案多增加一項(xiàng)選擇。

              恒緣鈦金與您分享

              1. 干涉顯微鏡法

              干涉條紋間距Δ0,條紋移動(dòng)Δ,臺(tái)階高為t=(Δ/Δ0 )*0.5λ,測出Δ0 和Δ,即可,其中λ為單色光波長,如用白光,λ取 530nm。

              2. 稱重法

              如果薄膜面積A,密度ρ和質(zhì)量m可以被精l確測定的話,膜厚t就可以計(jì)算出來:

              d=m/Aρ。

              3 石英晶體振蕩器法

              廣泛應(yīng)用于薄膜淀積過程中厚度的實(shí)時(shí)測量,主要應(yīng)用于淀積速度,厚度的監(jiān)測,還可以反過來(與電子技術(shù)結(jié)合)控制物質(zhì)蒸發(fā)或?yàn)R射的速率,從而實(shí)現(xiàn)對(duì)于淀積過程的自動(dòng)控制。

              對(duì)于薄膜制造商而言,產(chǎn)品的厚度均勻性是l重要的指標(biāo)之一,想要有效地控制材料厚度,厚度測試設(shè)備是必不可少的,但是具體要選擇哪一類測厚設(shè)備還需根據(jù)軟包材的種類、廠商對(duì)厚度均勻性的要求、以及設(shè)備的測試范圍等因素而定。


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