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              磁控濺射機廠家優惠報價

              【廣告】

              發布時間:2020-12-04 20:45  






              小型磁控濺射儀的優勢

              設備主要優勢    

              實用性:設備集成度高,結構緊湊,占地面積小,可以滿足客戶實驗室空間不足的苛刻條件;通過更換設備上下法蘭可以實現磁控與蒸發功能的轉換,實現一機多用;

              方便性:設備需要拆卸的部分均采用即插即用的方式,接線及安裝調試簡單,既保證了設備使用方便又保證了設備的整潔;

              高性價比:設備主要零部件采用進口或國內品牌,以國產設備的價格擁有進口設備的配置,從而保證了設備的質量及性能;

              安全性:獨立開發的PLC 觸摸屏智能操作系統在傳統操作系統的基礎上新具備了漏氣自檢與提示、通訊故障自檢、保養維護提示等功能,保證了設備的使用安全性能;

              期望大家在選購磁控濺射產品時多一份細心,少一份浮躁,不要錯過細節疑問。想要了解更多磁控濺射產品的相關資訊,歡迎撥打圖片上的熱線電話!!!



              什么是磁控濺射?

              磁控濺射是物理氣相沉積的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導體、絕緣體等多材料,且具有設備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強等優點。一般磁控濺射選的是耐溫120度或者150度的即便如此溫度也不宜太高通常冷卻水溫度不宜高過40度,這樣就不會出現磁鐵損壞、導致涂層不均勻、電壓升高、沉積速率降低等問題。上世紀 70 年代發展起來的磁控濺射法更是實現了高速、低溫、低損傷。因為是在低氣壓下進行高速濺射,必須有效地提高氣體的離化率。磁控濺射通過在靶陰極表面引入磁場,利用磁場對帶電粒子的約束來提高等離子體密度以增加濺射率。

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              磁控濺射介紹

              以下內容由沈陽鵬程真空技術有限責任公司為您提供,今天我們來分享磁控濺射產品的相關內容,希望對同行業的朋友有所幫助!

              用磁控靶源濺射金屬和合金很容易,點火和濺射很方便。這是因為靶(陰極),等離子體和被濺零件/真空腔體可形成回路。但若濺射絕緣體(如陶瓷),則回路斷了。主要問題是反應不光發生在零件表面,也發生在陽極,真空腔體表面以及靶源表面,從而引起滅火,靶源和工件表面起弧等。于是人們采用高頻電源,回路中加入很強的電容,這樣在絕緣回路中靶材成了一個電容。但高頻磁控濺射電源昂貴,濺射速率很小,同時接地技術很復雜,因而難大規模采用。為解決此問題,發明了磁控反應濺射。就是用金屬靶,加入氣和反應氣體如氮氣或氧氣。當金屬靶材撞向零件時由于能量轉化,與反應氣體化合生成氮化物或氧化物。



              【磁控濺射鍍膜設備】使用注意事項

              以下是沈陽鵬程真空技術有限責任公司為您一起分享的內容,沈陽鵬程真空技術有限責任公司專業生產磁控濺射產品,歡迎新老客戶蒞臨。

              磁控濺射鍍膜設備是目前一種鍍膜產品,相比傳統的水電鍍來講,磁控濺射鍍膜設備無毒性,能夠掩蓋,彌補多種水電鍍的缺陷。

              近年來磁控濺射鍍膜設備技術得到了廣泛的應用,現國內磁控濺射鍍膜設備廠家大大小小的也非常多,但是專注于磁控濺射鍍膜設備生產,

              經驗豐富的卻造磁控濺射鍍膜設備廠家,就一定會有一定的規模,這類磁控濺射鍍膜設備不像是小件的東西,

              磁控濺射鍍膜設備其技術含量非常的高,選購磁控濺射鍍膜設備時一定要先了解。

              磁控濺射鍍膜設備技術含量高,那么就一定要擁有一個非常強大的磁控濺射鍍膜設備技術工程隊伍,

              磁控濺射鍍膜設備行業資深的專家,磁控濺射鍍膜設備可根據用戶的產品工藝及物殊要求設計配置。



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