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發布時間:2020-12-04 13:41  





在工業計量中有很多需要檢測的參數與位移量的變化有關,如力、流量、溫度、速度、振動、密度、粘度等。所以位移的測量在工業甚至其他一些領域顯得尤為重要,而電容測微儀作為一種非接觸式的,能夠精準測量微小相對位移、微振動和微小尺寸的儀器,具有溫度穩定性好、測量范圍大、測量精度高、動態響應好、結構簡單等一系列優點,它的相對變化量大,能在特殊環境下工作,如在強光照射下、在核輻射條件、過載沖擊震動環境等。所以在航空、航天、工業生產加工、超精密測量等領域中具有廣泛應用。
隨著科學技術的發展,工業生產需要人們對微位移測量的精度和定位的精度提出更高的要求。在眾多的測量儀器當中,非接觸式測量儀器由于其自身的優點,成為微位移測量領域的主流研究方向之一。而電容測微技術作為非接觸式測量微位移的重要手段,具有溫度穩定性好、測量范圍大、測量精度高、動態響應好、結構簡單、穩定可靠、使用方便,并可實現無接觸式測量等一系列優點,特別適宜動態、在線檢測,并能在特殊環境下工作特別是隨著集成電路技術和計算機技術的發展,促使電容傳感器揚長避短,使電容傳感器成為一種很有發展前途的傳感器,近年來得到了大范圍的研究和推廣,廣泛應用于航天航空技術、精密機械加工以及其他工業測控領域中,主要用來測量各種介質的薄膜厚度、金屬微變、微小相對位移、微小孔徑及各種截面的形狀誤差等。尤其能在強光照射、核輻射條件、過載沖擊震動等惡劣環境下工作。
光學干涉顯微鏡測量技術,包括外差干涉測量技術、超短波長干涉測量技術、基于F-P(Febry-Perot)標準的測量技術等。隨著新技術、新方法的利用亦具有納米級測量精度。外差干涉測量技術具有高的位相分辨率和空間分辨率,如光外差干涉輪廓儀具有0.1?nm分辨率;基于頻率跟蹤的F-P標準具測量技術具有極高的靈敏度和準確度,其精度0.001?nm,其測量范圍受激光器調頻范圍的限制,僅有0.1?μm。而掃描電子顯微鏡(SEM)可使幾十個原子大小物體成像。