350型四源有機無機熱蒸發鍍膜機價格歡迎來電,沈陽鵬程真空技術公司

鈣鈦礦鍍膜機介紹

主要由有機/金屬源蒸發沉積室、真空排氣系統、真空測量系統、蒸發源、樣品加熱控溫、電控系統、配氣系統等部分組成。適用于制備金屬單質薄膜、半導體薄膜、氧化物薄膜、有機薄膜等，可用于科研單位進行新材料、新工藝薄膜研究工作，也可用于大批量生產前的試驗工作，廣泛應用于有機、無機、鈣鈦礦薄膜太陽能電池、OLED等研究領域。多源蒸發系統技術指標介紹有機蒸發室：經烘烤6小時左右，并連續抽氣真空優于8。鈣鈦礦鍍膜機工作過程中樣品位于真空室上方，蒸發源位于真空室下方，向上蒸發鍍膜，且蒸發源帶有擋板裝置，防止蒸發源被污染。

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電阻蒸發鍍膜機介紹

通過加熱蒸發某種物質使其沉積在固體表面，稱為熱蒸發鍍膜，熱蒸發鍍膜技術是歷史最悠久的PVD鍍膜技術之一。熱蒸發鍍膜機一般主要用于蒸發Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。

在高真空下，采用電阻式蒸發原理，利用大電流在蒸發舟上加熱所蒸鍍材料，使其在高溫下熔化蒸發，從而在樣品上沉積所需要的薄膜。通過調節所加電流的大小，可以方便的控制鍍膜材料的蒸發速率。通常適合熔點低于1500oC的金屬薄膜的制備。

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