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公司產(chǎn)品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶的構(gòu)想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高質(zhì)量掩膜版以及后期的代加工服務(wù)！

光刻掩模版通常用石英玻璃做為化學(xué)反應(yīng)，選用方解石是因?yàn)槠涞慕贤饩€穿透率。掩模版遮光一部分用Cr，因此有時(shí)候也叫鉻板。選用燈的g線應(yīng)i線，在于你常用的光刻膠，每個(gè)光刻膠產(chǎn)品介紹都是列舉其所比較敏感的納米段。 

通過(guò)金屬化過(guò)程，在硅襯底上布置一層僅數(shù)納米厚的金屬層。然后在這層金屬上覆上一層光刻膠。這層光阻劑在曝光（一般是紫外線）后可以被特定溶液（顯影液）溶解。使特定的光波穿過(guò)光掩膜照射在光刻膠上，可以對(duì)光刻膠進(jìn)行選擇性照射（曝光）。然后使用前面提到的顯影液，溶解掉被照射的區(qū)域，這樣，光掩模上的圖形就呈現(xiàn)在光刻膠上。選用燈的g線應(yīng)i線，在于你常用的光刻膠，每個(gè)光刻膠產(chǎn)品介紹都是列舉其所比較敏感的納米段。通常還將通過(guò)烘干措施，改善剩余部分光刻膠的一些性質(zhì)。

隨著沖版量的不斷增加和空氣中的CO2不斷溶入，顯影液中的OH-濃度會(huì)下降，pH值將越來(lái)越低，顯影時(shí)間應(yīng)慢慢變長(zhǎng)，至后在正常曝光條件下PS版無(wú)法顯影，這就是顯影液疲勞的現(xiàn)象。但隨著顯影液pH值的降低，堿液對(duì)氧化層和涂層樹(shù)脂的腐蝕力下降，版材的網(wǎng)點(diǎn)再現(xiàn)性及耐印力比用新配制的顯影液好一些。但必須注意兩點(diǎn)，一是沖版量必須控制在顯影液容許范圍內(nèi)；不同的PS版，烘烤時(shí)間、溫度及終顏色會(huì)不一致，所以需通過(guò)試驗(yàn)確定烤版條件。