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              桌式350型三靶磁控濺射儀公司給您好的建議“本信息長期有效”

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              發布時間:2020-08-23 17:02  






              磁控濺射鍍膜設備的主要用途

              沈陽鵬程真空技術有限責任公司——專業磁控濺射產品供應商,我們為您帶來以下信息。

              1.各種功能性的薄膜鍍膜。所鍍的膜一般能夠吸收、透射、反射、折射、偏光等效果。

              2.時裝裝飾領域的應用,比如說各種全反射鍍膜以及半透明鍍膜,可適用在手機外殼、鼠標等產品上。

              3.微電子行業領域中,其是一種非熱式鍍膜技術,主要應用在化學氣象沉積上。

              4.在光學領域中用途巨大,比如說光學薄膜(如增透膜)、低輻射玻 璃和透明導電玻璃等方面得到應用。

              5.在機械行業加工中,其表面功能膜、超硬膜等等。其作用能夠提供物品表面硬度從而提高化學穩定性能,能夠延長物品使用周期。



              自動磁控濺射系統概述

              帶有水冷或者加熱(可加熱到700度)功能,大到6'旋轉平臺,可支持到4個偏軸平面磁控管。系統配套渦輪分子泵,極限真空可達10-7 Torr,15分鐘內可以達到10-6 Torr的真空。主要問題是反應不光發生在零件表面,也發生在陽極,真空腔體表面以及靶源表面,從而引起滅火,靶源和工件表面起弧等。通過調整磁控管與基片之間的距離,可以獲得想要的均勻度和沉積速度。

              帶有14”立方形不銹鋼腔體,4個2”的磁控管,DC直流和RF射頻電源。 在選配方面,350 l/s渦輪分子泵,額外的磁控管和襯底加熱功能。

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