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              發布時間:2021-01-20 08:26  






              熱風隧道烘箱的運行、性能確認及異常情況處理


              熱風隧道烘箱的運行確定

              依據規范安全操作規程議案對機器設備的每一部分及總體開展滿載實驗,保證 該機器設備的特性在合理范疇內準確開展并做到要求的性能指標。定期檢查檢測設備運行性能參數,確定熱風隧道烘箱合乎機器設備的運行和設計方案性能參數的規定。

              1、熱風隧道烘箱運行確定的項目

              機器設備運行確定;機器設備操縱確定;機器設備安全系數確定,溫度熱遍布及各類性能指標的確定。根據熱風隧道烘箱安全操作規程,按一切正常運行速率持續運行4鐘頭,對機器設備運行查驗開展紀錄。







              隧道式烘箱的工作原理是什么?


                在計算機軟件的監控器下,玻璃瓶隨輸送皮帶的運輸先后進到隧道施工殺菌烘干箱的加熱區、高溫殺菌區、和超低溫制冷區。輸送皮帶速率無極可調式,溫度檢測系統配置無紙或者有紙紀錄。全過程自始至終處在百級層.流維護之中。

                   隧道式烘箱加溫元器件安裝在烘干箱頂部,提升了熱效.烘干箱裝有家用電器控制箱,溫度數顯式操縱。可操縱在任一控溫情況。出入口可選用和100級潔凈度等級豎直層.流的清潔對原材料開展制冷使原材料處在嚴苛無菌檢測潔凈情況。烘干箱隔熱層內選用硅酸鋁纖維氈做為保溫隔熱材料,隔熱保溫特性優良。隧道爐烘箱是密封的設備,用于烘烤食物或干燥產品,分為家用烤箱和工業烤箱。


                 隧道施工式烘干箱是回轉式烘干機設備,可持續性連續地烤制,提升商品生產率。多邊裝有鏈傳動,處理運送全過程中方向跑偏的狀況。烘干箱按段式加溫,單獨開關箱操縱、實際操作便捷。構造關鍵由皮帶輸送機系統軟件與烘干爐兩絕大多數構成。兩段單獨PID溫控,爐內溫度勻稱。運輸速率交流電機調速,調整輕松,運作穩定,制造高的效率。隧道爐使用完后需要先將加熱開關關閉,時機身自然冷卻,這樣做能夠延長發熱絲的壽命,溫度降低至100度后再將電源關閉。










              影響隧道爐烘箱固化效果的因素有哪些?


                 1.光譜分布

                 描述作為燈管發射波長功能之一的相輻射能量或到達表層的輻射能量的波長分布。其常用一個相關標準化的術語來表達。為了顯示UV能量的分布,可以把光譜能量合并為lOnm的頻譜帶以形成一個分布表。這樣便允許不同UV燈之間的對比以及更易于光譜能量和功率的計算。流水線烘箱的應用范圍在工業化生產領域,流水線烘箱有著廣泛的應用,適用于批量化的產品干燥和烘焙。

                 紫外線的波長對紫外線固化有效的波長是200nm—400nm

                 一般在線檢測使用多譜帶射線探測儀來使光譜輻射度或輻射量特性化。通過對在相對狹窄(20hm—60nm)的頻帶中的輻射能量的采樣以獲得對光譜分布有用的相對信息。由于不同廠商的射線探測儀的構造不同,對其做相互比較是有可能的,但很困難。現在還沒有這樣的標準以使型號、廠家之間進行比較。流水線烘箱是連續式烘干設備,可持續不間斷地烘焙,提高產品生產效率。







              UV輻射度

                 輻射度是到達表面單位面積內的輻射功率。輻射度,以每平方厘米瓦特或豪瓦來表示。其隨燈管的輸出功率、效率、反射系統的聚焦以及到表面的距離不同而不同(其是燈管及幾何形狀的特性,故與速度無關)。直接置于UV燈下的高強度、峰值聚焦功率參考為峰值輻射度。輻射度包括了所有有關電源功率、效率、輻射輸出、反射率、聚焦燈泡尺寸及幾何形狀的因素。隧道式烘箱傳送方式一般有鏈條式傳動、網帶式傳動、網鏈式傳動、網布式傳動、鏈桿式傳動、輥底式傳動、振動傳送、氣流傳送等,主要是依據物料形態、有沒有料盤、烘烤溫度選型。

                 由于UV可固化材料的吸收特性,到達表層以下的光能量要比表層的要少。在這些區域的固化條件可能有顯著不同。光學厚度厚的材料(高吸收性、物理結構厚或者兩者有之)可能會減少光效率,從而導致材料深層的固化不充分。在油墨或涂層里的表面較高的輻射度會提供相對較高的光能量。固化的深度更多地是被輻射度影響而不是因較長的曝光時間(輻射量)所致。輻射度的影響對于高吸收性(高不透明度)的薄膜更重要。隧道烘箱在進行加熱的時候,它的主要發熱元件是石英玻璃管,通過不同的輻射系數,讓設備的耗能比較低,升溫速度較快。

                 高輻射度允許使用較少的光觸發劑。光子密度的增加增多了光子光觸發劑的碰撞,從而補償了光觸發劑濃度的減少。這對于較厚的涂層會有效,因為表層的光觸發劑吸收和阻礙了同一波長到達深層的光觸發劑分子。







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