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CT系列鍍膜機

CT(Custamued workstation)系列鍍膜機系我司非標定制產品，根據您的要求單獨設計，滿足您的特殊需要。

特點：1、按需開發，量身定制。

2、整機采用柜式結構，密封性能好，防塵防水，安全。

3、磁控、熱蒸發多種鍍膜方式可選

4、可集成手套箱系統

5、可集成多種自動化應用

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薄膜均勻性概念

1.厚度上的均勻性，也可以理解為粗糙度，在光學薄膜的尺度上看（也就是1/10波長作為單位，約為100A），真空鍍膜的均勻性已經相當好，可以輕松將粗糙度控制在可見光波長的1/10范圍內，也就是說對于薄膜的光學特性來說，真空鍍膜沒有任何障礙。此外，雖然QCM在低溫下非常穩定，但溫度高，它將成為對溫度很敏感。 但是如果是指原子層尺度上的均勻度，也就是說要實現10A甚至1A的表面平整，具體控制因素下面會根據不同鍍膜給出詳細解釋。

2.化學組分上的均勻性： 就是說在薄膜中，化合物的原子組分會由于尺度過小而很容易的產生不均勻特性，SiTiO3薄膜，如果鍍膜過程不科學，那么實際表面的組分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，鍍的膜并非是想要的膜的化學成分，這也是真空鍍膜的技術含量所在。本公司專業從事真空鍍膜設備的研發與生產擁有經驗豐富的技術團隊及優質的售后服務隊伍為您解決設備在使用過程中遇到的任何問題。 具體因素也在下面給出。

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蒸發鍍膜

一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發出來。厚度均勻性主要取決于：

1、基片材料與靶材的晶格匹配程度

2、基片表面溫度

3、蒸發功率，速率

4. 真空度

5. 鍍膜時間，厚度大小

組分均勻性：蒸發鍍膜組分均勻性不是很容易保證，具體可以調控的因素同上，但是由于原理所限，對于非單一組分鍍膜，蒸發鍍膜的組分均勻性不好。

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