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鍍膜技術在信息存儲領域中的應用

薄膜材料作為信息記錄于存儲介質，有其得天獨厚的優勢：由于薄膜很薄可以忽略渦流損耗；磁化反轉極為迅速；與膜面平行的雙穩態狀態容易保持等。

物理氣相沉積（PVD）是一種真空鍍膜工藝，許多人知道常用于提高切削刀具的性能。但北京丹普表面技術有限公司的真空鍍膜機設備可以提供陰極電弧PVD涂層服務可提供更硬，更潤滑的產品，與未涂層工具相比，可將工具壽命提高10倍。耐磨表面。同時由于PVD是一種干法鍍技術,可以避免濕法鍍時酸性或堿性電解質溶液殘留在磁體孔隙內和電鍍過程中磁體吸氫而導致鍍層脆裂的缺點。 此外，制造商越來越多地使用PVD涂層來區分其設備的外觀與類似產品和/或增強其設備的性能，因為硬質惰性涂層具有生物相容性，不會與骨骼發生反應，組織或體液。涂覆PVD涂層的的實例包括，鉆頭和針頭，以及用于各種裝置組件以及應用的“磨損”部件。

鍍膜技術在信息存儲領域中的應用 薄膜材料作為信息記錄于存儲介質，有其得天獨厚的優勢：由于薄膜很薄可以忽略渦流損耗；磁化反轉極為迅速；與膜面平行的雙穩態狀態容易保持等。車燈鍍膜機 為了更精密地記錄與存儲信息，必然要采用鍍膜技術。

鍍膜技術在傳感器方面的應用 在傳感器中，多采用那些電氣性質相對于物理量、化學量及其變化來說，極為敏感的半導體材料。

蒸發鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發出來。并且沉降在基片表面，通過成膜過程(散點-島狀結構-迷走結構-層狀生長)形成薄膜。從蒸發源到基片的屬距離應小于蒸氣分子在殘余氣體中的平均自由程，以免蒸氣分子與殘氣分子碰撞引起化學作用。 對于濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來，并且終沉積在基片表面，經歷成膜過程，終形成薄膜。

主要分類有兩個大種類: 蒸發沉積鍍膜和濺射沉積鍍膜，具體則包括很多種類，包括真空離子蒸發，磁控濺射，MBE分子束外延，溶膠凝膠法等等 。