日照回收硅料公司優選企業「多圖」

電池片組件回收層壓三階段

振鑫焱光伏科技有限公司常年采購：高價回收硅片，電池片，初級多晶硅，銀漿布，單晶硅，多晶硅，太陽能電池，光伏組件，太陽能電池板，客戶撤退，降級，庫存，El，不良測試，二手，舊，工程，拆卸，路燈，拆解電站，拆卸，膠合板，層壓板，無邊界晶體硅，多晶硅，單晶硅，實驗板，債務償還，返工，光伏模塊回收等。

電池片組件回收 

（1）剛開始環節，層壓機的溫度維持在較低溫度，EVA熔融，有優良的流通性，可是化學交聯速率比較慢。進口真空泵對下室真空包裝，因此部件內部的汽體快速而且非常容易的被吸走。上室維持真空泵，部件沒受工作壓力。 

（2）EVA干固環節。層壓機溫度上升到1個較高溫度，EVA產生迅速的化學交聯反映。下室繼續保持真空包裝，立即排出來干固全過程造成的汽體。一起上室打氣，上下左右室中間的工作壓力差使層壓機中的硫化橡膠層對部件施壓。 

（3）完畢環節。EVA干固進行。起先上室真空包裝，移去工作壓力，隨后下室打氣，打開表蓋。針對BIPV部件，兩面全是夾層玻璃，而且為了實現工程建筑規定，片式玻璃的厚度乃至超過5mm。基本的絕緣層背膜-EVA-電池片-EVA-夾層玻璃5層封裝加工工藝，此環節壓層出現的難題較多。封裝出現的汽泡，挪動等狀況，依據EVA熔化干固基本原理，探求合適封裝的與眾不同加工工藝。依據具體生產制造必須和必須品牌EVA的干固特點按給出方式提升壓層主要參數。

電池片的檢驗

振鑫焱光伏科技有限責任公司長期購置：天價回收硅片，電池片，初中級多晶硅，銀漿布，單晶硅，多晶硅，太陽電池，太陽能組件，太陽能光伏板，顧客撤離，退級，庫存量，El，欠佳檢測，2手，舊，工程項目，拆裝，道路路燈，拆卸發電廠，拆裝，人造板，層壓板，無界限結晶硅，多晶硅，單晶硅，試驗板，負債還款，返修，太陽能發電控制模塊收購等。 

五、絨面色素斑（水跡印、未制絨、未鍍一層薄薄的膜、手指頭印、黑斑等）

A級 

變動前：容許有輕度缺點，缺點一部分的占地面積不超出電池片占地面積的10%，數量不超出3個。A級目前變動后：把絨面色素斑分為二種種類：泛白色素斑和淺藍色斑 

（1）泛白色素斑 

因為存有深藍色到乳白色的跳色，故A級片絨面色素斑中不允許有泛白色素斑，缺點占地面積占電池片占地面積的0—30%，數量不超出5個，合乎此規范的均判為B級。 

（2）淺藍色斑 

淺藍色斑的B級判斷規范不會改變新的規范：色素斑一部分的色調和該電池片上別的地域的色調不容許跳色，應是相仿色，即深藍色和暗藍色（或深藍色和淺藍色）存有于單個充電電池上，總數和總面積均不分。 

B級 

容許有不顯著缺點，缺點占地面積不超出電池片占地面積的30%，數量不超出5個。新的規范：容許有輕微色素斑、閃光點、容許跳1個相仿色，單個充電電池上只容許存有3顏色（比如深藍色—乳白色，深藍色—鮮紅色），色素斑一部分的占地面積不超出電池片占地面積的10%，數量不超出5個。

C級 

缺點占地面積不超出電池片占地面積的30%，或是數量不超出5個。注徹底沒有鍍一層薄薄的膜的影片夜稱C級退級片。新的規范：色素斑一部分的占地面積超出電池片占地面積的10%，或是總數5個。

STF 印制：

A 級：

標識要有虛印、粗印現象（字母線寬度應小于 0.22mm   ）但仍可辨識時作為 A 級。若標識存在缺印但仍可辨識時，按字母高度的 1/3 判定，缺失長度小于字母高度 1/3 。

B 級：

標識要有虛印、粗印現象，字母線寬度應小于 0.22mm   ，但仍可辨識時，如實心“ P ”，若標識存在缺印但仍可辨識時，按字母高度的

1/3 判定，缺失長度小于字母高度 1/3 。

C 級：

若字母變形或無法辨識時直接降為 C 級。

新的標準與舊的相同

缺陷片：

1．   主柵線或副柵線或背電極或背電場超出 c 級降級片的要求時，但仍有利用價值的片子。

2．   由于存儲不當造成成電極氧化時，直接以報廢片處理

3．   僅印刷烘干而沒有經過燒結的電池片，如果還有利用價值，則租鋪位缺陷片處理

4．   完全未印制背電場的電池片作缺陷片處理。

5．   疊片仍有利用價值的作為缺陷片，如果全疊片則作為報廢片處理。

電池片流程

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電池片流程

擴散制結： 太陽能電池需要一個大面積的 PN 結以實現光電轉化， 而擴散爐就是制造太陽能電池P-N 結的專用設備。擴散用三氯氧磷為擴散源。在 830 度的高溫下用氮氣將三氯氧磷帶入石英容器，通過三氯氧磷和硅片進行反應，得到磷離子，通過硅原子質檢的空隙向硅片內擴散，形成 P-N 結。

需注意 :

石英舟一舟可放置 500 片， 擴散面需跟制絨面在同一面上，擴散為單面擴散，工藝流程為 83 分鐘。

濕法刻蝕： 利用 HNO3 和 HF 的混合液體對擴散后硅片下表面和邊緣進行腐蝕 , 去除邊緣的 N 型硅 , 使得硅片的上下表面相互絕緣。

需注意 : 刻蝕分為干濕兩法 ，目前采用濕法，刻蝕后需做親水性測試。

如何判斷親水性是否良好？

用純水滴在硅片上看硅片上的擴散面積。機械臂流片需要返工因臭氧層丟失。

PEVCD:   鍍減反射膜可以有效降低光的反射 .

需注意 : 石墨舟一周可放置 240 片硅片，流程為 50 分鐘， 在此階段會發生色斑，色差等問題。

絲網印刷 ： 把帶有圖案的模版附著于絲網上進行印刷   ， 通常絲網由尼龍、聚酯、絲綢或金屬網制作而成  ， 承印物直接放在帶有模版的絲網下面，漿料在刮刀的擠壓下穿過絲網間的網孔  ， 只有圖像部分能穿過，印刷到承印物上印刷流程為背電極——背電場——正電極。

需注意 ： 斷柵 問題會出現在此工藝段。也是電池片的后一大工藝段。