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鍍鎳光亮劑可分為初級光亮劑、次級光亮劑和和輔助光亮劑三種。　

　1．初級光亮劑　　初級光亮劑又稱為類光亮劑或載體光亮劑，這類光亮劑是一些含硫的化合物，在分子結構上都含有一個或一個以上的磺化基團。初級光亮劑能獲得結晶細致并有一定光澤的鍍層，能降低鍍層的張應力。這種光亮劑單獨使用并不能獲得全光亮的鍍層，只有與第二類光亮劑配合使用時才能使鍍層達到全光亮，如用量過多會使鍍層呈現壓應力。常用的初級光亮劑有：苯亞磺酸鈉、對磺酰胺、苯磺酸、糖精、苯2磺酸、磺酸等。其中以糖精使用，它是的應力，通常用來降低或消除鍍層薄霧。初級光亮劑的濃度范圍為0.5～2. 5g/L，其濃度取決于化合物的種類，需要通過實驗來確定。初級光亮劑在電解過程中消耗速度不快，主要消耗來自于隨工件帶出和活性炭處理。　　

2．次級光亮劑　　次級光亮劑又稱為第二類光亮劑，這類光亮劑的結構中常含有雙鍵、三鍵等不飽和基團，使鍍液具有較好的整平性。這種光亮劑單獨使用雖然也能獲得光亮的鍍層，但鍍層脆性較大、張應力較高、光亮范圍窄，同時對鍍液雜質敏感性較高，當用量較大時也容易使鍍層產生。只有當與初級光亮劑配合使用時，才可以獲得全光亮、整平性、延展性能良好的鍍層。這類光亮劑主要包括有醛類、酮類、炔類、類、雜環類五種類型，如：甲醛、水合氯醛、香豆素、二馬來酸酯、1，4-、1，4-與的縮合物、丁炔二磺酸、丙炔酸、亞醇、喹啉甲碘化物、對氨基偶氮苯、和等。以香豆素、甲醛和1，4-應用較多。其中香豆素可用于半光亮鍍鎳的整平劑，它使鍍層的內應力增加并提升鍍層的光亮度，曾被較多采用。但香豆素的陰極還原產物草木樨酸與鍍層結合使鍍層的韌性降低，硬度增加，必須經常使用活性炭來處理

      所以，小編匯總了關于電鍍鎳鐵合金故障分析與處理的19條知識，希望給大家一些參考。

      1.鍍液中鉛雜質對鍍層有何影響?如何處理?影響：少量鉛雜質使零件在低電流密度區鍍層發花、變灰，還有可能出現黑斑，隨其含量增多，此現象會向高電流密度區延伸，使鍍層結合力不好。處理方法：①少量的鉛雜質可在0.5A/din2的電流密度下進行電解去除;②向鍍液中添加0.39/L苯亞磺酸鈉，使它生成白色的沉淀而除去。③由于這類鍍液中有較多的sOi一，所以過多的鉛雜質能與soi一作用生成PbS04沉淀，因此鉛雜質不會很高。

      2.鉻雜質會對鍍層有何影響?如何處理?影響：六價鉻進入鎳鐵合金鍍液，會被Fe2 還原為Cr3 ，而Fe2 本身被氧化為Fe3 ，這樣，大部分的鉻以Cr3 的形式存在。當Cr3 >0.59/L時，就會導致鍍層粗糙或有毛刺。??處理方法：①鎳鐵合金鍍液中去除Crs 比鍍鎳溶液中困難，因為若用高pH值法處理，鎳鐵合金鍍液中的主鹽之一——Fez 也會形成氫氧化物沉淀而除去。故在一般情況下，少量的Cr3 用沖稀鍍液的方法來消除其影響;②只有當Cr3 含量很高，可用高pH值法處理，把鉻和鐵一起除去，處理后用硫酸降低pH值，重新向鍍液中補充并調整鍍液成分，這樣雖然損失較大，但除鉻比較徹底。

      3.鍍液中銅雜質對鍍層有何影響?如何處理?影響：銅雜質會引起鍍層粗糙，并使零件的低電流密度區鍍層發黑：處理方法：①少量的銅雜質可將鍍液的pH值降低至2左右，然后用小電流密度電解去除;②稍多一些的銅雜質可將鍍液的pH值降至1～2，然后用活化的鐵陽極頭子或鐵粉置換。

      電鍍工藝過程一般包括電鍍前處理，電鍍及鍍后處理三個階段。如果只是認為電鍍加工只有電鍍這項工藝，那就錯啦！電鍍前，要做這些步驟：步，使表面粗糙度達到一定要求，可通過表面磨光、拋光等工藝方法來實現。第二步，去油脂，可采用溶劑溶解以及化學，電化學等方法來實現。第三步，除銹，可用機械、酸洗以及電化學方法除銹。第四步，活化處理，一般在弱酸中侵蝕一定時間進行鍍前活化處理。做完上述步驟，才開始電鍍。電鍍了還沒完事，還要做簡單的后處理，的后處理包括熱水清洗和干燥，根據金屬的用途或設計目的，又可以將其后處理分為三類，即提高或增強防護性、裝飾性和功能性。

       (1)防護性后處理除了鍍鉻以外，所有其他防護性鍍層如果是作為表面鍍層時，都必須進行適當的后處理，以保持或增強其防護性能。常用的后處理方法是鈍化法。對防護要求比較高的還要進行表面涂覆處理，比如進行罩光涂料處理，從環保和成本方面考慮，可以采用水性透明涂料。(2)裝飾性后處理裝飾性后處理是非金屬電鍍中較多見的處理流程。比如鍍層的仿金、仿銀、仿古銅、刷光、著色或者染色以及其他藝術處理。這些處理也大都需要表面再涂覆透明罩光涂料。有時還要用彩色透明涂料，比如仿金色、紅色、綠色、紫色等顏色的涂料。(3)功能性后處理有些非金屬電鍍制品是出于功能需要而設計的，在電鍍之后還要進行某些功能性處理。比如作為磁屏蔽層的表面涂膜，用作焊接性鍍層的表面焊料涂覆等。改革開放以來，我國的電鍍行業取得了迅猛的發展。無論是規模、產量還是產值都已進入世界電鍍大國之列。電鍍加工生產中，我們一定要遵循電鍍行業發展規律，科學生產。

電鍍工藝的影響因素1.主鹽體系每一鍍種都會發展出多種主鹽體系及與之相配套的添加劑體系.如鍍鋅有鍍鋅，鋅酸鹽鍍鋅，氯化物鍍鋅(或稱為鉀鹽鍍鋅)，氨鹽鍍鋅，硫酸鹽鍍鋅等體系。每一體系都有自己的優缺點，如鍍鋅液分散能力和深度能力好，鍍層結晶細致，與基體結合力好，耐蝕性好，工藝范圍寬，鍍液穩定易操作對雜質不太敏感等優點.但是，嚴重污染環境.氯化物鍍鋅液是不含絡合劑的單鹽鍍液，廢水極易處理；鍍層的光亮性和整平性優于其它體系；電流，沉積速度快；氫過電位低的鋼材如高碳鋼，鑄件，鍛件等容易施鍍.但是由于氯離子的弱酸性對設備有一定的腐蝕性，一方面會對設備造成一定的腐蝕，另一方面此類鍍液不適應需加輔助陽極的深孔或管狀零件。電鍍工藝的影響因素

2.添加劑添加劑包括光澤劑,穩定劑,柔軟劑,潤濕劑，低區走位劑等.光澤劑又分為主光澤劑，載體光亮劑和輔助光澤劑等.對于同一主鹽體系，使用不同廠商制作的添加劑，所得鍍層在質量上有很大差別.總體而言歐美和日本等發達國家的添加劑，臺灣次之，大陸產的相對而言比前兩類都遜色。主鹽與具體某一廠商的添加劑的聯合決定了使用的鍍液的整體性能.的添加劑能彌補主鹽某些性能的不足.如的氯化物鍍鋅添加劑與氯化物主鹽配合得到的鍍液深鍍能力比許多鍍鋅鍍液的深度能力好。電鍍工藝的影響因素3.電鍍設備掛具：方形掛具與方形鍍槽配合使用，圓形掛具與圓形鍍槽配合使用.圓形鍍槽和掛具更有利于保證電流分布均勻，方形掛具則需在掛具周圍加設諸如鐵絲網之類的分散電流裝置或縮短兩側陽極板的長度，使用如圖所示的橢圓形陽極排布。攪拌裝置：促進溶液流動，使溶液狀態分布均勻，消除氣泡在工件表面的停留.電源：直流，穩定性好，波紋系數小。