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發布時間:2020-10-08 06:49  





目前,國內石英坩堝生產企業生產中使用的生產設備及工藝技術全部源于上世紀70年代初錦州155廠從日本引進的生產設備及工藝技術,該項技術設備自動化程度不高,整個生產過程中更多的依靠人工來實現,現在國內新上的坩堝生產設備都已經往自動化發展。坩堝使用時通常會將坩堝蓋斜放在坩堝上,以防止受熱物跳出,并讓空氣能自由進出以進行可能的氧化反應。坩堝的發展還是很快的。
石英坩堝可在1450度以下使用,分透明和不透明兩種。在每次拆爐時,要清理氧化物,并把石墨件上的滲硅清理干凈,一些保溫蓋等部件要擦拭干凈,避免一些雜物污染原料,除了在使用中注意人身安全外,還需要注意這種物品要輕拿輕放,確保石墨坩堝的安全。用電弧法制的半透明石英坩堝是拉制大直徑單晶硅,發展大規模集成電路必不可少的基礎材料。當今,世界半導體工業發達國家已用此坩堝取代了小的透明石英坩堝。他具有高純度、耐溫性強、尺寸大精度高、保溫性好、節約能源、質量穩定等優點。
石墨坩堝扛氧化能力的提升辦法有哪些?
對以金屬硅粉為主要滲料,在密閉的匣缽內采用包埋法的工藝,保1健品電視專題片,能夠制得構造公道擁有功效 梯度特點的合乎涂層,即sic過渡層-sic致密層-si-sio2多相涂層。坩堝的安裝一、安裝坩堝前,必須先檢查爐膛內部:爐壁和爐底應該是完好無損,沒有金屬或爐渣附著。以sic為主成份的外層,跟著高溫保溫時光的延伸,涂層厚度增添 ,sio2含量增多。
該涂層與基體的結合主要以化學結合為主,兼有機械結合,聯合強度高。5、坩堝和爐壁之間要保持適當的距離,一般要把坩堝放在爐內中央。對涂層后的石墨坩堝進行扛氧化測試,測 試成果表白:包埋法制備的扛氧化涂層,在1100℃-1300℃存在較凸起的扛氧化機能,泰興減速機。浸涂構成的單涂層重要以sic跟si3n4為主。