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發布時間:2020-12-27 18:29  





化學浸鍍(簡稱化學鍍)技術的原理是:化學鍍是一種不需要通電,依據氧化還原反應原理,利用強還原劑在含有金屬離子的溶液中,將金屬離子還原成金屬而沉積在各種材料表面形成致密鍍層的方法。錫是一種銀白色的金屬,無毒,具有良好的焊接和延展性等,廣泛應用電子、食品、汽車等工業。化學鍍常用溶液:化學鍍銀、鍍鎳、鍍銅、鍍鈷、鍍鎳磷液、鍍鎳磷硼液等。目前以次亞磷酸鹽為還原劑的化學鍍鎳的自催化沉積反應,已經提出的理論有“原子氫態理論” 、“氫化物理論”和“電化學理論”等。在這幾種理論中,得到廣泛承認的是“原子氫態理論”。

化學鍍鎳溶液中的主鹽就是鎳鹽,一般采用或,有時也采用鎳、醋酸鎳等無機鹽。早期酸性鍍鎳液中多采用,但會增加鍍層的應力,現大多采用。當鍍液中無絡合劑時,鍍液使用幾個周期后,由于亞磷酸根聚集,濃度增大,產生亞磷酸鎳沉淀,鍍液加熱時呈現糊狀,加絡合劑后能夠大幅度提高亞磷酸鎳的沉淀點,即提高了鍍液對亞磷酸鎳的容忍量,延長了鍍液的使用壽命。目前已有專利介紹采用次亞磷酸鎳作為鎳和次亞磷酸根的來源,一個優點是避免了硫酸根離子的存在,同時在補加鎳鹽時,能使堿金屬離子的累積量達到小值。但存在的問題是次亞磷酸鎳的溶解度有限,飽和時僅為35g/L。次亞磷酸鎳的制備也是一個問題,價格較高。如果次亞磷酸鎳的制備方法成熟以及溶解度問題能夠解決的話,這種鎳鹽將會有很好的前景。


3. 鍍層應具有規定的厚度和盡可能少的孔隙。(注意,許多電子產品,比如DIN頭,N頭,已經不再使用鎳打底,主要是由于鎳有磁性,會影響到電性能里面的無源互調)。4. 鍍層應具有規定的各項指標,如光亮度、硬度、導電性等。 5. 電鍍時間及電鍍過程的溫度,決定鍍層厚度的大小。5.環境溫度為-10℃~60℃;6.輸入電壓為220V±22V或380V±38V;7.水處理設備工作噪聲應不大于80dB(A)。8.相對濕度(RH)應不大于95%;9.原水COD含量為100mg/L~150000mg/L。





