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PVD真空鍍膜過程的均勻性

PVD真空鍍膜過程非常復雜，由于鍍膜原理的不同分為很多種類，僅僅因為都需要高真空度而擁有統一名稱。所以對于不同原理的PVD真空鍍膜，影響均勻性的因素也不盡相同。并且均勻性這個概念本身也會隨著鍍膜尺度和薄膜成分而有著不同的意義。

PVD鍍膜加工工藝流程比較長、工序繁多，發生故障的影響因素會很多。如PVD鍍膜前處理不凈、清洗不良、電解液成分失調及雜質污染、生產環境不良等。PVD鍍膜而故障的原因往往存在于以上各影響因素的一兩個細節之中。

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  當代社會隨著人們生活水平的不斷提高，我們開始對商品裝飾要求也越來越高，這便對各類的商品裝飾提出了新的挑戰，在傳統上對非金屬物件表面金屬化或金屬物件表面裝飾通常采用電鍍的方法。但是由于傳統電鍍毒性大污染非常的嚴重,如今現代人的環保意識逐漸加強,這種技術已慢慢的被當代社會淘汰。

真空鍍膜機與傳統的電鍍法相比，功能真空鍍膜機技術功能非常多還具有非常好的裝飾效果、主要是金屬感強、成本低污染小、易于操作等優點。

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由于真空鍍鋁薄膜上的鍍鋁層非常薄，因此不能用常規的測厚儀器檢測其厚度，常用的檢測方法如下：

①電阻法。電阻法是利用歐姆定律來對鍍鋁層的厚度進行測量，根據歐姆定律： R=pXL/S 單位面積鍍鋁薄膜的電阻值越小，其鍍鋁層的厚度越厚，反之則越薄。

電阻法檢測鍍鋁層的厚度用表面電阻來表示，單位是Q，數值越大說明鍍鋁層厚度越薄，一般真空鍍鋁薄膜的表面電阻值為1.0～2.5Q。