測厚儀廠家免費咨詢,一六儀器1

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發布時間：2020-12-05 07:24

X射線測厚儀結構

一六熒光測厚儀十年以上研發團隊集研發生產銷售一體

元素分析范圍:氯(CI)- 鈾(U) 厚度分析范圍:各種元素及有機物

一次可同時分析:23層鍍層,24種元素厚度檢出限:0.005um

（一）、外部結構原理圖

X熒光做鍍層分析時，根據射線是至上而下照射樣品，還是至下而上照射樣品的方式，將X熒光分析儀的外部整體結構分為：上照射和下照射兩種結構。

（二）、各種外部結構的特點

1、上照射方式

用于照射(激發)的X射線是采用由上往下照射方式的設備稱為上照射儀器。此類設備的Z軸為可移動方式，用于確定射線照射光斑的焦點，確保測量的準確性。

①、Z軸的移動方式

根據Z軸的移動方式，分為自動和手動兩類；

自動型的設備完全由程序與自動控制裝置實現，其光斑對焦的重現性與準確度都很高，而且使用非常簡便（一般是與圖像采集系統與控制系統相結合的方式），一般只需要用鼠標在圖像上點擊一下即可定位。此類設備對于測試形狀各異的樣品非常方便，也是目前主流的分析設備類型。可靠性高：由于測試過程無人為干擾因素，儀器自身分析精度、重復性與穩定性很高。

手動型設備，一般需要用人觀察圖像的方式，根據參考斑點的位置，手動上下調節Z軸方向，以達到準確對焦的目的。因此，往往在測試對象幾何結構基本上沒有變化的情況下使用比較快捷。

②、X、Y軸水平移動方式

水平移動方式一般分為：無X、Y軸移動裝置；手動X、Y軸移動裝置；電動X、Y軸移動裝置；全程控自動X、Y軸移動裝置。

這幾類的設備都是根據客戶實際需要而設計的，例如：使用無X、Y軸移動裝置的也很多，結構簡單，樣品水平移動完全靠手動移動，這種設備適合于樣品面積較大，定位比較容易的測試對象。

xiao測量面積0.002m㎡深凹槽20mm以上

鍍層厚度分析儀測量原理與儀器

一．磁吸力測量原理鍍層厚度分析儀

磁鐵（測頭）與導磁鋼材之間的吸力大小與處于這兩者之間的距離成一定比例關系，這個距離就是覆層的厚度。利用這一原理制成測厚儀，只要覆層與基材的導磁率之差足夠大，就可進行測量。鑒于大多數工業品采用結構鋼和熱軋冷軋鋼板沖壓成型，所以磁性測厚儀應用廣。測厚儀基本結構由磁鋼，接力簧，標尺及自停機構組成。磁鋼與被測物吸合后，將測量簧在其后逐漸拉長，拉力逐漸增大。當拉力剛好大于吸力，磁鋼脫離的一瞬間記錄下拉力的大小即可獲得覆層厚度。于是內層形成空穴，外層電子躍遷回內層填補空穴，同時放出波長在0。新型的產品可以自動完成這一記錄過程。不同的型號有不同的量程與適用場合。這種儀器的特點是操作簡便、堅固耐用、不用電源，測量前無須校準，價格也較低，很適合車間做現場質量控制。

二．磁感應測量原理鍍層厚度分析儀

采用磁感應原理時，利用從測頭經過非鐵磁覆層而流入鐵磁基體的磁通的大小，來測定覆層厚度。也可以測定與之對應的磁阻的大小，來表示其覆層厚度。覆層越厚，則磁阻越大，磁通越小。利用磁感應原理的測厚儀，原則上可以有導磁基體上的非導磁覆層厚度。一般要求基材導磁率在500以上。如果覆層材料也有磁性，則要求與基材的導磁率之差足夠大（如鋼上鍍鎳）。當軟芯上繞著線圈的測頭放在被測樣本上時，儀器自動輸出測試電流或測試信號。早期的產品采用指針式表頭，測量感應電動勢的大小，儀器將該信號放大后來指示覆層厚度。采用基本參數法（FP），有內置頻譜庫，無論是鍍層系統還是固體和液體樣品，都能在沒有標準片的情況下進行準確的分析和測量。近年來的電路設計引入穩頻、鎖相、溫度補償等地新技術，利用磁阻來調制測量信號。還采用專利設計的集成電路，引入微機，使測量精度和重現性有了大幅度的提高（幾乎達一個數量級）。現代的磁感應測厚儀，分辨率達到0.1um，允許誤差達1%，量程達10mm。磁性原理測厚儀可應用來測量鋼鐵表面的油漆層，瓷、搪瓷防護層，塑料、橡膠覆層，包括鎳鉻在內的各種有色金屬電鍍層，以及化工石油待業的各種防腐涂層。

三．電渦流測量原理鍍層厚度分析儀

高頻交流信號在測頭線圈中產生電磁場，測頭靠近導體時，就在其中形成渦流。測頭離導電基體愈近，則渦流愈大，反射阻抗也愈大。這個反饋作用量表征了測頭與導電基體之間距離的大小，也就是導電基體上非導電覆層厚度的大小。由于這類測頭專門測量非鐵磁金屬基材上的覆層厚度，所以通常稱之為非磁性測頭。非磁性測頭采用高頻材料做線圈鐵芯，例如鉑鎳合金或其它新材料。因此，往往在測試對象幾何結構基本上沒有變化的情況下使用比較快捷。與磁感應原理比較，主要區別是測頭不同，信號的頻率不同，信號的大小、標度關系不同。與磁感應測厚儀一樣，渦流測厚儀也達到了分辨率0.1um，允許誤差1%，量程10mm的高水平。

采用電渦流原理的測厚儀，原則上對所有導電體上的非導電體覆層均可測量，如航天航空器表面、車輛、家電、鋁合金門窗及其它鋁制品表面的漆，塑料涂層及陽極氧化膜。覆層材料有一定的導電性，通過校準同樣也可測量，但要求兩者的導電率之比至少相差3-5倍（如銅上鍍鉻）。雖然鋼鐵基體亦為導電體，但這類任務還是采用磁性原理測量較為合適。我們專業的研發團隊具備十年以上的從業經驗，經與海內外多名專家通力合作，研究開發出一系列能量色散X熒光光譜儀先進的技術，專業的團隊，嚴格的企業管理是公司得以不斷發展壯大、產品能夠贏得客戶信賴的根本所在。

江蘇一六儀器有限公司是一家專注于光譜分析儀器研發、生產、銷售的高新技術企業。公司位于上海和蘇州中間的昆山市城北高新區。我們專業的研發團隊具備十年以上的從業經驗，經與海內外多名專家通力合作，研究開發出一系列能量色散X熒光光譜儀

X射線熒光光譜測厚儀原理

一個內層電子而出現一個空穴，使整個原子體系處于不穩定的激發態，激發態原子壽命約為 (10)-12-(10)-14s，然后自發地由能量高的狀態躍遷到能量低的狀態。這個過程稱為馳豫過程。馳豫過程既可以是非輻射躍遷，也可以是輻射躍遷。當較外層的電子躍遷到空穴時，所釋放的能量隨即在原子內部被吸收而逐出較外層的另一個次級光電子，此稱為俄歇效應，亦稱次級光電效應或無輻射效應，所逐出的次級光電子稱為俄歇電子。X射線熒光光譜儀是基于X射線熒光光譜法而進行分析的一種常見分析儀器。

它的能量是特征的，與入射輻射的能量無關。當較外層的電子躍入內層空穴所釋放的能量不在原子內被吸收，而是以輻射形式放出，便產生X射線熒光，其能量等于兩能級之間的能量差。因此，X射線熒光的能量或波長是特征性的，與元素有一一對應的關系。 K層電子被逐出后,其空穴可以被外層中任一電子所填充，從而可產生一系列的譜線，稱為K系譜線:由L層躍遷到K層輻射的X射線叫Kα射線,由M層躍遷到K層輻射的X射線叫Kβ射線……。X射線熒光光譜儀主要由激發、色散、探測、記錄及數據處理等單元組成。