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真空鍍膜

真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發并凝結于鍍件（金屬、半導體或絕緣體）表面而形成薄膜的一種方法。例如，真空鍍鋁、真空鍍鉻等。

真空鍍膜開發成功

據估計，間斷式批量生產的真空鍍金屬工藝的生產率僅是連續生產式工藝的50%。更有甚者，在每爐生產后，在再行生產第二爐前要投人大量而艱辛的勞動以去除聚集于爐中的無效金屬蒸汽類廢料以及清除鍍金屬爐的內部，使之清潔干凈。此種棘手問題，隨著蒸鍍金屬工藝的發明、采用而俱來已有多年。因此.如何使蒸鍍過程一直處于真空狀態中.并能連續進行生產，這是國外從事表面蒸鍍金屬工藝和設備的科技人員們所孜孜以求企盼解決的目標。

真空鍍膜優點

2.由于該種設備采用了迥異于批量式鍍金屬法中常采用的多個分開的短形金屬蒸發舟皿式柑禍的長型整體式增禍;因此蒸鍍在被鍍條狀材的金屬膜層上和前者相比在相同蒸發條件下所鍍積的厚度較均勻。

3.在間斷式(或稱批量式)蒸鍍金屬法中，眾所周知其所鍍金屬的浪費很大，約75%是浪費的。這不但將有用金屬，形同廢料;而且如前所述在清除一爐生產后剩留于爐中和真空室中的殘留物亦頗費周折。與此相反，由于該種設備將在條狀材和柑禍之間的金屬蒸汽通道設計、制造成有罩式的，可將未蒸鍍完的金屬蒸汽再循環至柑禍處（不使流散于別處）重復回收使用。