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真空鍍膜

真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發并凝結于鍍件（金屬、半導體或絕緣體）表面而形成薄膜的一種方法。例如，真空鍍鋁、真空鍍鉻等。

真空鍍膜應用

真空蒸鍍金屬是繼電鍍等表面處理法之后，根據對包裝和裝飾材料膜類的表面處理的需要而發展起來的一種頗具生命力的、可適用于多種被蒸鍍基材的表面處理工藝。1先采用的方法是將金屬加熱汽化后，再冷凝在基材上。工藝過程全部在抽成一定真空(例如其剩余壓力為標準大氣壓的1/1000000)的密閉容器中進行。另外，要求其被蒸鍍的基材表面必須極平整潔凈，使附著面積和附著力完全符合要求，以保證所鍍金屬制品的表面質量。

目前有多種金屬可用作蒸鍍金屬的原材料，但是在包裝技術領域中用得廣、普遍、且有實用經濟價值的應首推鋁(具有高純度的鋁材)在直接真空蒸鍍法中的金屬鍍層厚度一般為0. 007一0. 008mm 。

近已開發的新一代的轉移法真空鍍金屬法中所蒸鍍的金屬厚度只有前者(直接法)的1/500左右(約為0. 000015mm )。過去國外以及目前國內大部采用直接法進行真空鍍金屬工藝，其缺點是耗金屬量相對較多;對基材的平整度和光潔度的要求也特別高;特別是制造所謂“鍍鋁紙”時，除對作為基材的紙張要求具有極1佳的平整、光潔度外，因紙含水量較多(10%左右)，在高真空和較高溫度下易失水變脆，使工藝更加復雜，產品成本也相應提高。

以上兩種方法目前存在的問題是均不能連續生產。只能在真空爐中逐爐進行批量生產。這是當今國外工業發達國家正在研究的課題，并且在諸如日本、美國等國家已開發了設備較為龐大的真空鍍金屬包裝用膜的連續生產線。這無疑是包裝技術和設備方面的一大突破。