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發(fā)布時間:2021-07-03 11:16  






原來磁場強弱雖不好進行控制,但同時工件也在同時運轉(zhuǎn),且是靶材原子多次沉積此案結(jié)束鍍膜工序,在一段時間內(nèi)雖然某些部位厚,某些部位薄,但另一個時間內(nèi),磁場強的作用下在原來薄的部位沉積上厚的,在厚的部位沉積上薄的,如此多次,整個膜層成膜后,均勻性還是比較不錯的。
亞氣的送氣均勻性也會對膜層均勻性產(chǎn)生影響,其原理實際上和真空度差不多,因為亞氣的進入,真空室內(nèi)壓強會產(chǎn)生變化,均勻的壓強大小可以控制成磁控濺射真空鍍膜機膜厚度的均勻性。
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光學鍍膜零件表面鍍膜后,光在膜層層上多次反射和透射,形成多光束干涉,控制膜層的折射率和厚度,可以得到不同的強度分布,這是干涉鍍膜的基本原理。
光學鍍膜的前處置做工請求比光學鍍膜越發(fā)兇險。這是由于在光學鍍膜過程中試件作為陰極,能夠經(jīng)過調(diào)理陰極的極化度等各項參數(shù)來得到鍍層。