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簡單的光學薄膜模型是表面光滑、各向同性的均勻介質薄層。在這種情況下，能夠用光的干與理論來研究光學薄膜的光學性質。當一束單色平面波入射到光學薄膜上時，在它的兩個表面上發(fā)作屢次反射和折射，反射光和折射光的方向由反射定律和折射定律給出，反射光和折射光的振幅大小則由菲涅耳公式確認（見光在分界面上的折射和反射）。


雖然鍍膜的光學現象在很早就為人們所注意，但是把光學鍍膜作為一個課題進行專門研究卻開始于20世紀以后，這主要因為真空技術的發(fā)展給各種光學薄膜的制備提供了先決條件。發(fā)展到今日，光學鍍膜已得到很大發(fā)展，光學鍍膜的生產已逐步走向系列化、程序化和專業(yè)化，但是，在光學鍍膜的研究中還有不少問題有待進一步解決，光學鍍膜現有的水平在不少工作中還不能滿足要求，需要提高。

減反射膜是應用廣、產量大的一種光學鍍膜，因此，它至今仍是光學薄膜技術中重要的研究課題，研究的重點是尋找新材料，設計新膜系,改進淀積工藝,使之用較少的層數，簡單、穩(wěn)定的工藝，獲得盡可能高的成品率，達到理想的效果。帶通濾光片只允許光譜帶中的一段通過，而其他部分全部被濾掉,按照它們結構的不同可分為法布里-珀羅型濾光片、多腔濾光片和誘增透濾光片。