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發(fā)布時間:2020-10-06 10:55  





化學(xué)氣相沉積的應(yīng)用
現(xiàn)代科學(xué)和技術(shù)需要使用大量功能各異的無機(jī)新材料,這些功能材料必須是高純的,或者是在高純材料中有意地?fù)饺肽撤N雜質(zhì)形成的摻雜材料。但是,我們過去所熟悉的許多制備方法如高溫熔煉、水溶液中沉淀和結(jié)晶等往往難以滿足這些要求,也難以保證得到高純度的產(chǎn)品。公司生產(chǎn)、銷售化學(xué)氣相沉積,公司擁有強(qiáng)大的銷售團(tuán)隊(duì)和經(jīng)營理念。因此,無機(jī)新材料的合成就成為現(xiàn)代材料科學(xué)中的主要課題。
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化學(xué)氣相沉積技術(shù)類型介紹
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化學(xué)氣相沉積裝置主要的元件就是反應(yīng)器。按照反應(yīng)器結(jié)構(gòu)上的差別,我們可以把化學(xué)氣相沉積技術(shù)分成開管/封管氣流法兩種類型:
1 封管法這種反應(yīng)方式是將一定量的反應(yīng)物質(zhì)和集體放置于反應(yīng)器的兩邊,將反應(yīng)器中抽成真空, 再向其中注入部分輸運(yùn)氣體,然后再次密封, 再控制反應(yīng)器兩端的溫度使其有一定差別,它的優(yōu)點(diǎn)是:①能有效夠避免外部污染;②無須持續(xù)抽氣就能使是內(nèi)部保持真空。
2 開管法這種制備方法的特點(diǎn)是反應(yīng)氣體混合物能夠隨時補(bǔ)充。廢氣也可以及時排出反應(yīng)裝置。以加熱方法為區(qū)分,開管氣流法應(yīng)分為熱壁和冷壁兩種。(2)刻蝕腔體刻蝕腔體是ICP刻蝕設(shè)備的核心結(jié)構(gòu),它對刻蝕速率、刻蝕的垂直度以及粗糙度都有直接的影響。前者的加熱會讓整個沉積室壁都會因此變熱,所以管壁上同樣會發(fā)生沉積。冷壁式加熱一般會使用感應(yīng)加熱、通電加熱以及紅外加熱等等。
化學(xué)氣相沉積技術(shù)的使用
生產(chǎn)晶須:
晶須屬于一種以為發(fā)育的單晶體,它在符合材料范疇中有著很大的作用,能夠用于生產(chǎn)一些新型復(fù)合材料。 化學(xué)氣相沉積法在生產(chǎn)晶須時使用的是金屬鹵化物的氫還原性質(zhì)。化學(xué)氣相沉積法生產(chǎn)幾種金屬薄膜金屬薄膜因其有著較好的高導(dǎo)電率、強(qiáng)催化活性以及極其穩(wěn)定引起了研究者的興趣。化學(xué)氣相沉積法不但能制備出各類金屬晶須,同時也能生產(chǎn)出化合物晶須,比如氧化鋁、金剛砂、碳化鈦晶須等等。
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