PVD中頻離子鍍膜機價格

磁控濺射法定義是什么？

磁控濺射法是在高真空充入適量的Ar氣，在陰極（柱狀靶或平面靶）和陽極（鍍膜室壁）之間施加幾百K直流電壓，在鍍膜室內產生磁控型異常輝光放電，使Ar氣發生電離。Ar離子被陰極加速并轟擊陰極靶表面，將靶材表面原子濺射出來沉積在基底表面上形成薄膜。

離子濺射鍍膜機

多靶離子束濺射鍍膜機系統在光學薄膜沉積應用中處于較高地位。多靶離子束濺射鍍膜機是當今僅存的在同一系統可互換使用行星型，簡單旋轉型或可翻轉型基片裝置的系統。

在通信應用上，能用于沉積高產值的200，100和50GHz具有窄通帶,寬截止頻帶,高隔離度,低插損特性的DWDM濾波器，滿足為嚴格的性能指標。在其它光學應用上，多靶離子束濺射鍍膜機能用于沉積增透膜，復雜的非四分之一波長膜層，以及吸收和散射低于百萬分位的超低損耗激光鏡。

多弧磁控濺射多功能離子鍍膜設備

多弧磁控濺射多功能離子鍍膜備可在金屬或非金屬的表面鍍制硬質增壽臘、裝飾臘、合金膜或多層臘，可廣泛用于刀刃、模具、鐘表、首飾、燈具、建筑五金及裝飾用彩色鋼板、眼鏡架、電子產品、器械、儀器儀表等領域。

多弧磁控濺射多功能離子鍍膜設備在真空條件下采用物理氣相沉積技術，在基片上鍍制氮化鈦及其它薄膜。它將多弧離子鍍技術、柱形靶及磁控油射離子鍍技術有機結合在一起，可單獨使用或同時使用，制取含有連續過渡層的各種膜層。

多弧磁控濺射多功能離子鍍膜設備制造簡單，使用方便，運行成本低無污染，經濟效益高。其雙真空室可交替工作，能提高工效一倍，大大節省投資。

PVD硬質涂層真空鍍膜機應用介紹及它的系統特點

PVD超硬質涂層（工模具）真空鍍膜機是當今世界上用于表面涂裝PVD膜層的先進專用設備,運用PLC及觸摸屏實現自動化邏輯程序控制操作,設備結構合理、外觀優雅、性能穩定、操作達到人機對話，簡便，鍍出的膜層牢固且細密，是工業化生產的理想設備，其特點是它的環保性，真空鍍膜設備屬于無三廢、無污染的清潔生產設備，無須環保部門審批。由于配有先進的電器控制系統及穩定的工藝界面,針對各種金屬進行表面鍍膜.例如:鐘表行業(表帶、表殼、表盤等)、五金行業（衛生潔具、門把手、拉手、門鎖等）、建筑行業（不銹鋼板、樓梯扶手、立柱等）、精密模具業（沖棒標準件模具、成型模具等）、工具行業（鉆頭、硬質合金、銑刀、拉刀、刀頭）、汽車工業（活塞、活塞環、合金輪轂等）以及鋼筆、眼鏡等等，使其表面得到既美觀又耐磨的功能性磨層.主要鍍制的膜層有:離子金、離子銀、氮化鈦膜、碳化鈦膜、氮化鋯膜、鈦鋁合金膜、氮化鉻以及RP鍍等超硬功能性金屬膜，經離子鍍膜加工后的工件，可以提高硬度、耐磨度，抗腐蝕和美化的作用。可鍍制顏色有鈦金系列、鋯金系列、拉絲系列、黑色系列、彩色膜層系列共十多種色系。