輕金屬微弧氧化價(jià)格廠家直供「日照微弧技術(shù)」

微弧氧化技術(shù)的特點(diǎn)

微弧氧化技術(shù)的應(yīng)用越來(lái)越多，有多方面的優(yōu)勢(shì)，下面咱們一起了解一下。

1．微弧氧化技術(shù)大幅度地提高了材料的表面硬度，顯微硬度在HV 800~2000，高可達(dá)HV 3000，可與硬質(zhì)合金相媲美，大大超過(guò)熱處理后的高碳鋼、高合金鋼和高速工具鋼的硬度。

2．有良好的絕緣性能，絕緣電阻可達(dá)100MΩ。

3．基體原位生長(zhǎng)氧化膜，氧化膜與基體屬冶金結(jié)合，結(jié)合牢固，氧化膜致密均勻。

4．溶液為環(huán)保型，工藝過(guò)程中無(wú)任何污染，屬環(huán)保型表面處理技術(shù)。

微弧氧化的起源

微弧氧化(MAO)是一種在輕金屬表面原位生長(zhǎng)陶瓷氧化膜的新技術(shù)。美國(guó)五十年代在某些兵工廠開(kāi)始研究陽(yáng)極火花沉積,前蘇聯(lián)從七十年代中期開(kāi)始獨(dú)立研究微弧氧化且具較高水平,八十年代中、后期以來(lái)微弧氧化研究已成為國(guó)際研究熱點(diǎn)并開(kāi)始應(yīng)用,九十年代初國(guó)內(nèi)開(kāi)始起步。微弧氧化電源可存儲(chǔ)或調(diào)用多套工藝參數(shù)，自動(dòng)化程度高，可大幅度提高工件陽(yáng)極氧化膜層的硬度和氧化膜層的耐蝕性、致密性。微弧氧化在航空、航天、機(jī)械、電子、裝飾等領(lǐng)域有廣泛應(yīng)用前景。

微弧氧化膜層生長(zhǎng)發(fā)育時(shí)，先在基體表面產(chǎn)生放熱反應(yīng)，轉(zhuǎn)化成一層陽(yáng)極處理膜。當(dāng)擴(kuò)大反映電壓時(shí)，膜層厚度會(huì)進(jìn)一步增加，再次增加電壓，厚度會(huì)隨著增加。可是當(dāng)反映電壓增加到一定水平時(shí)，膜層會(huì)因?yàn)椴豢梢猿袚?dān)該工作電壓產(chǎn)生充放電且熱擊穿，造成低溫等離子充放電。微弧氧化技術(shù)對(duì)鋁及其合金材料進(jìn)行表面強(qiáng)化處理，微弧氧化電解液不含有毒物質(zhì)和重金屬元素，沒(méi)有污染，符合綠色環(huán)保的國(guó)情。反映的高溫將使膜層產(chǎn)生熔化，基體原素因?yàn)樘幱诟谎踝匀画h(huán)境中，將產(chǎn)生化合物。另外因?yàn)槭窃阡囯姵仉娊庖褐校刍飳⒁凰查g冷凝器，在基體表面轉(zhuǎn)化成一層瓷器。陶瓷膜的轉(zhuǎn)化成，將造成工作電壓進(jìn)一步上升，膜層再度被熱擊穿，膜層厚度進(jìn)一步增加。循環(huán)反復(fù)，膜層足以生長(zhǎng)發(fā)育。