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微弧氧化的設備

      1. 微弧氧化電源

　　因電壓要求較高(一般在510—700V之間)，需專門定制。通常配備硅變壓器。電源輸出電壓：0—750V可調。電源輸出大電流：5A、10A、30A、50A、100A等可選。

      2.氧化槽

      一般采用pp焊接槽即可，pp槽具有堅固耐用，防腐蝕。

      3.溶液冷卻和攪拌系統

      在微弧氧化過程中，會在工件表面產生瞬時高溫高壓，為了及時能帶走產生的熱量及平衡穩定氧化槽的溫度，必須配備外循環和熱交換方式，溶液的循環同時達到攪拌和冷卻槽液的目的。微弧氧化電源、微弧氧化生產線、微弧氧化技術

       微弧氧化技術是近年來發展起來的一種鋁、鎂合金表面陶瓷化處理技術，它是鋁、鎂合金在電解液中通過高壓電場作用下的放電火花燒結，在其表面生成一層由α-Al2O3 和γ-Al2O3為主要成分并與基體形成冶金結合的氧化鋁（或氧化鎂）陶瓷層，氧化鋁（或氧化鎂）陶瓷層的高硬度、高阻抗和穩定性滿足鋁、鎂合金防海水腐蝕和高溫熱蝕以及改善其耐磨性等。微弧氧化槽液微弧氧化主要針對鋁、鎂、鈦、等閥金屬（閥金屬是指在電解液中起到電解閥門作用的金屬）。

       鋁合金微弧氧化又稱等離子體微弧氧化，等離子體陶瓷化或火花放電沉積技術。它是在普通陽極氧化基礎上通過提升電壓等措施發展起來的，是通過電解液與相應電參數的組合，在鋁、鎂、鈦及其合金表面依靠弧光放電產生的瞬時高溫高壓作用，生長出以基體金屬氧化物為主的陶瓷膜層。為此微弧氧化膜的硬度和耐磨性都得到明顯提高，其耐腐蝕性和電絕緣性也隨之有較大的提高。由于微弧氧化過程中工件表面具有較高的氧化電壓并通過較大的電解電流，使產生的熱量大部分集中于膜層界面處，而影響所形成膜層的質量，因此微弧氧化必須使用配套的熱交換制冷設備，使電解液及時冷卻，保證微弧氧化在設置的溫度范圍內進行。