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佛山市錦城鍍膜有限公司以耐高溫車輛燈具注塑 鍍膜為主的專業生產廠家，公司秉承“以質取勝，求真務實，顧客至上”理念，歡迎廣大客戶光臨了解,我們將為你的產品錦上添花.

鍍膜工藝流程中工藝參數的控制和對膜層沉積的影響 ：

偏壓：偏壓施加于工件上，在輝光清洗時工件（陰極）與爐體之間產生輝光放電，部分氣被電子離化產生離子，離子（帶正電）在負偏壓作用下受工件吸引轟擊清洗工件表面，偏壓越大，對工件的轟擊凈化越干凈，但同時工件本身的溫升也越大，特別是尖角位棱角位置；在離子轟擊中用于加速離子，提高離子轟擊工件表面的能量，去除表面氧化層和吸附物，達到提高膜層結合力的作用。真空鍍膜之磁控濺射鍍膜：磁控濺射的基本原理就是以磁場改變電子運動方向，束縛和延長電子的運動軌跡，從而提高了電子對工作氣體的電離幾率和有效地利用了電子的能量。

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輝光清洗：對工件施加負偏壓，產生輝光放電，利用ya離子轟擊工件表面，這種輝光放電清洗作用比較柔和，一般采取由弱到強的轟擊清洗順序，是怕工件太臟時一開始就強轟擊，可能產生強烈的打火而損傷工件。

離子鍍工藝則有所不同，雖然也是在真空罩內進行的，但這時鍍膜過程是以電荷傳遞的形式來實現的。真空鍍膜之磁控濺射鍍膜：電子的運動路徑不僅很長，而且被電磁場束縛在靠近靶表面的等離子體區域內，在該區中電離出大量的離子用來轟擊靶材，從而實現了磁控濺射沉積速率高的特點。也就是說，蒸發料的粒子作為帶正電荷的高能離子在高壓陰極（即工件）的吸引下，以很高的速度注入到工件表面。相當于一個從槍g中射出的高速彈頭，可以穿入靶體很深，在工件上形成一種附著牢固的擴散鍍層。