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發布時間:2020-07-25 05:20  





佛山市錦城鍍膜有限公司以耐高溫車輛燈具注塑 鍍膜為主的專業生產廠家,公司秉承“以質取勝,求真務實,顧客至上”理念,歡迎廣大客戶光臨了解,我們將為你的產品錦上添花.
鍍膜工藝流程中工藝參數的控制和對膜層沉積的影響 :弧靶電流:弧靶電流越大,靶材蒸發量越大,靶面溫度越高,冷卻越差,弧靶產生的液滴大顆粒越多,膜層外觀越差,膜層中的缺陷越多。

真空鍍膜的形式:蒸發鍍膜
工藝原理:
1)在真空室中,膜料被加熱變成蒸發原子,蒸發原子在真空條件下不與殘余氣
體分子碰撞而到達工件表面;
2)蒸發原子與基材碰撞后一部分被反射,另一部分被吸附;
3)吸附原子在基材表面發生表面擴散。
普通真空鍍膜時,蒸發料粒子大約只以一個電子伏特的能量向工件表面蒸鍍,在工件表面與鍍層之間,形成的界面擴散深度通常僅為幾百個埃(10000埃=1微米=0.0001厘米)。而離子鍍時,蒸發料粒子電離后具有三千到五千電子伏特的動能。利用電阻加熱器加熱蒸發的優點:鍍膜機構造簡單,造價便宜、使用可靠,可用于熔點不太高的材料的蒸發鍍膜,尤其適用于對膜層質量要求不太高的大批量的生產中。當其高速轟擊工件時,不但沉積速度快,而且能夠穿透工件表面,形成一種注入基體很深的擴散層,離子鍍的界面擴散深度可達四至五微米,也就是說比普通真空鍍膜的擴散深度要深幾十倍,甚至上百倍,因而彼此粘附得特別牢。
