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              發布時間:2020-12-10 11:50  






              脈沖激光沉積發展前景

              由脈沖激光沉積技術的原理、特點可知,它是一種極具發展潛力的薄膜制備技術。隨著輔助設備和工藝的進一步優化,將在半導體薄膜、超晶格、超導、生物涂層等功能薄膜的制備方面發揮重要的作用;脈沖激光沉積系統特點及優勢可根據客戶需求定制產品,靈活性高,并提供專業的技術支持。并能加快薄膜生長機理的研究和提高薄膜的應用水平,加速材料科學和凝聚態物理學的研究進程。同時也為新型薄膜的制備提供了一種行之有效的方法。

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