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發(fā)布時(shí)間:2020-10-14 22:07  





直流二級(jí)離子鍍,是穩(wěn)定的輝光放電;空心陰極離子鍍與熱絲弧離子鍍,是熱弧光放電,產(chǎn)生電子的原因均可簡單概括為金屬材料由于被加熱到很高的溫度,導(dǎo)致核外電子的熱發(fā)射;陰極電弧離子鍍的放電類型與前面幾種離子鍍的放電類型均不相同,它采用的是冷弧光放電。這么做不僅僅是為了增加產(chǎn)品的美觀程度,也可以很大程度上提升其使用壽命,所以在實(shí)際中得到了廣泛應(yīng)用,成為當(dāng)今公認(rèn)的、能加工硬脆非金屬材料的工具。在眾多離子鍍膜技術(shù)中陰極電弧離子鍍可謂是其中的集大成者,其目前已經(jīng)逐步發(fā)展為硬質(zhì)薄膜領(lǐng)域的主力。
較為成熟的 PVD 方法主要有多弧鍍與磁控濺射鍍兩種方式。蒸發(fā)源接陽極,工件接陰極,當(dāng)通以三至五千伏高壓直流電以后,蒸發(fā)源與工件之間產(chǎn)生輝光放電。多弧鍍?cè)O(shè)備結(jié)構(gòu)簡單,容易操作。它的離子蒸發(fā)源靠電焊機(jī)電源供電即可工作,其引弧的過程也與電焊類似,具體地說,在一定工藝氣壓下,引弧針與蒸發(fā)離子源短暫接觸,斷開,使氣體放電。由于多弧鍍的成因主要是借助于不斷移動(dòng)的弧斑,在蒸發(fā)源表面上連續(xù)形成熔池,使金屬蒸發(fā)后,沉積在基體上而得到薄膜層的,與磁控濺射相比,它不但有靶材利用率高,更具有金屬離子離化率高,薄膜與基體之間結(jié)合力強(qiáng)的優(yōu)點(diǎn)。