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電鍍鋅目的是為了防止鋼鐵類物體被腐蝕，提高鋼鐵的耐蝕性及使用壽命，同時也使產品增加裝飾性的外觀，鋼鐵隨著時間的增長會被風化，水或泥土腐蝕。國內每年被腐蝕的鋼鐵差不多占整個鋼鐵量的十分之一，所以，為了保護鋼鐵或其零件的使用壽命，一般都采用電鍍鋅來將鋼鐵加工處理。

由于鋅在干燥空氣中不易變化，而且在潮濕的環境下更能產生一種堿式碳酸鋅薄膜，這種薄膜就能保護好內部零件而不被腐蝕損壞，即使鋅層被某種因素破壞的情況下，鋅和鋼經過一段時間結合會形成一種微電池，而使鋼基體成為陰極而受到保護。

金是一種黃色金屬，具有很高的化學安穩性。金原子有一價和三價兩種價態，一價金 的標準電位為 1.68V，三價金的標準電位為 1.50V，對鋼、銅、銀及其合金而言，金鍍層為陰極性維護鍍層，因此在一些電鍍加工廠中將真空真金電鍍加工技能多使用在金屬飾品上。真金電鍍電鍍層具有的耐蝕性、導電性和抗高溫性，廣泛使用于精細儀器儀表、印制電路 板、集成電器、電子管殼、電接點等請求電參數功用長期安穩的零件上。此外，一些時髦飾品批發、掛鐘零件、藝術品等的鍍層，也占有相當大的份額。

真空電鍍生產廠家在真空中制備膜層，包括鍍制晶態的金屬、半導體、絕緣體等單質或化合物膜。雖然化學汽相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段，但一般真空鍍膜是指用物理的方法沉積薄膜。真空鍍膜有三種形式，即蒸發鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。蒸發鍍膜通過加熱蒸發某種物質使其沉積在固體表面，稱為蒸發鍍膜。這種方法早由M.法拉第于1857年提出，現代已成為常用鍍膜技術之一蒸發物質如金屬、化合物等置于坩堝內或掛在熱絲上作為蒸發源，待鍍工件，如金屬、陶瓷、塑料等基片置于坩堝前方。待系統抽至高真空后，加熱坩堝使其中的物質蒸發。蒸發物質的原子或分子以冷凝方式沉積在基片表面。薄膜厚度可由數百埃至數微米。膜厚決定于蒸發源的蒸發速率和時間（或決定于裝料量），并與源和基片的距離有關。對于大面積鍍膜，常采用旋轉基片或多蒸發源的方式以保證膜層厚度的均勻性。從蒸發源到基片的距離應小于蒸氣分子在殘余氣體中的平均自由程，以免蒸氣分子與殘氣分子碰撞引起化學作用。蒸氣分子平均動能約為0.1～0.2電子伏。

電鍍是制造業不可或缺的基礎工藝。電鍍生產中發生不良在所難免，不良現象頻發會影響生產進度和產品合格率，形成經濟損失。排除不良是電鍍技術人員管理的重要內容，以下針對相當基礎不良現象與原因解析。1．鍍層結合力不好,結合力不好一般有下列幾種狀況：(1)底層結合力不好，該狀況大都是前處理不良、基體金屬上的油污或氧化膜未除盡形成的。(2)打底鍍層成份控制不妥，如堿銅中銅與游離比例不妥，有六價鉻污染等。(3)前處理工序中的表面活性劑黏附在基體表面未清洗潔凈。(4)腐蝕過度，有些工廠除銹酸的濃度高或不加緩蝕劑也會形成結合力不佳。