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發布時間:2020-10-18 21:38  





等離子干法刻蝕技術是利用等離子體進行薄膜微細加工的技術。在典型的干法刻蝕工藝過程中,一種或多種氣體原子或分子混合于反應腔室中,在外部能量作用下(如射頻、微波等)形成等離子體,干法刻蝕技術由于具有良好的各向異性和工藝可控性已被廣泛應用于微電子產品制造領域,憑借在等離子體控制、反應腔室設計、刻蝕工藝技術、軟件技術的積累與創新,北方華創微電子在集成電路、半導體照明、微機電系統、先進封裝、功率半導體等領域可提供高端裝備及工藝解決方案。形成了對硅、介質、化合物半導體、金屬等多種材料的刻蝕能力,其中應用于集成電路領域的硅刻蝕機已突破14nm技術,進入主流芯片代工廠,其余各類產品也憑借其優異的工藝性能成為了客戶的。

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公司的全自動環保蝕刻機成功應用于濟南重汽,特變電工, 濟南泉城廣場,山東大學,山東農業大學,電力集團等。設備銷往世界各地:迪拜、泰國、越南、印尼、新加坡、西班牙等,公司主營:蝕刻機,標牌機,腐蝕機,大型熱轉印機,立體玻雕機、印刷設備等全系列新型數控標識設備、技術開發、專業培訓,是數碼標識配套設備供應商,公司產品連續多年榮獲山東消費者滿意單位稱號。
這倆機器的解釋就是光刻機把電路圖投影到覆蓋有光刻膠的硅片上面,刻蝕機再把剛才畫了電路圖的硅片上的多余電路圖腐蝕掉,這樣看起來似乎沒什么難的,但是有一個形象的比喻,每一塊芯片上面的電路結構放大無數倍來看比整個北京都復雜,這就是這光刻和蝕刻的難度

蝕刻
薄金屬卡片的制作,主要采用蝕刻的工藝來完成。
它的蝕刻原理是:蝕刻機中的三氯化鐵溶液,沖刷暴露著的銅材表面,三氯化鐵溶液中的三價鐵離子會快速氧化、蝕刻這部分暴露著銅材,我們用微距拍攝可以清晰地看到,局部的銅材被蝕刻液一點點地蝕刻。
自動型蝕刻機:1、 如今市場上所見到的自動型化學蝕刻機是通過高壓噴淋及被蝕刻板直線運動形成連續不間斷進料狀態進行對工件腐蝕以提高生產效率;2、加大了噴淋與被蝕刻金屬板的有效面積和蝕刻均勻程度,無論在蝕刻效果、速度和改善操作者的環境及方便程度,都優于潑濺式蝕刻;

光刻機和刻蝕機的區別:
刻蝕相對光刻要容易。光刻機把圖案印上去,然后刻蝕機根據印上去的圖案刻蝕掉有圖案(或者沒有圖案)的部分,留下剩余的部分。
“光刻”是指在涂滿光刻膠的晶圓(或者叫硅片)上蓋上事先做好的光刻板,然后用紫外線隔著光刻板對晶圓進行一定時間的照射。原理就是利用紫外線使部分光刻膠變質,易于腐蝕。
“刻蝕”是光刻后,用腐蝕液將變質的那部分光刻膠腐蝕掉(正膠),晶圓表面就顯出半導體器件及其連接的圖形。然后用另一種腐蝕液對晶圓腐蝕,形成半導體器件及其電路。
