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簡(jiǎn)述

真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個(gè)重要方面，它是以真空技術(shù)為基礎(chǔ)，利用物理或化學(xué)方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術(shù)，為科學(xué)研究和實(shí)際生產(chǎn)提供薄膜制備的一種新工藝。簡(jiǎn)單地說，在真空中把金屬、合金或化合物進(jìn)行蒸發(fā)或?yàn)R射，使其在被涂覆的物體（稱基板、基片或基體）上凝固并沉積的方法，稱為真空鍍膜。

真空鍍膜特點(diǎn)

編輯鍍鋁薄膜與鋁箔復(fù)合材料相比具有以下特點(diǎn)：（1）大大減少了用鋁量，節(jié)省了能源和材料，降低了成本，復(fù)合用鋁箔厚度多為7～9pm，而鍍鋁薄膜的鋁層厚度約為0．05n左右，其耗鋁量約為鋁箔的1/140～1/180，且生產(chǎn)速度可高達(dá)450m/min。（2）具有優(yōu)良的耐折性和良好的韌性，很少出現(xiàn)和裂口，無揉曲龜裂現(xiàn)象，因此對(duì)氣體、水蒸汽、氣味、光線等的阻隔性提高。

真空鍍膜應(yīng)用

以上兩種方法目前存在的問題是均不能連續(xù)生產(chǎn)。只能在真空爐中逐爐進(jìn)行批量生產(chǎn)。這是當(dāng)今國外工業(yè)發(fā)達(dá)國家正在研究的課題，并且在諸如日本、美國等國家已開發(fā)了設(shè)備較為龐大的真空鍍金屬包裝用膜的連續(xù)生產(chǎn)線。這無疑是包裝技術(shù)和設(shè)備方面的一大突破。