微弧氧化圖片生產基地,日照微弧氧化電源

微弧氧化技術

       微弧氧化工藝將工作區域由普通陽極氧化的法拉第區域引入到高壓放電區域，克服了硬質陽極氧化的缺陷，極大地提高了膜層的綜合性能。微弧氧化膜層與基體結合牢固，結構致密，韌性高，具有良好的耐磨、耐腐蝕、耐高溫沖擊和電絕緣等特性。該技術具有操作簡單和膜層功能可控的特點，而且工藝簡便，環境污染小，是一項全新的綠色環保型材料表面處理技術，在航空航天、機械、電子、裝飾等領域具有廣闊的應用前景。該技術的基本原理及特點是：在普通陽極氧化的基礎上，利用弧光放電增強并ji活在陽極上發生的反應，從而在以鋁、鈦、鎂金屬及其合金為材料的工件表面形成優質的強化陶瓷膜的方法。微弧氧化技術、微弧氧化生產線、微弧氧化電源

微弧氧化的設備

      1. 微弧氧化電源

　　因電壓要求較高(一般在510—700V之間)，需專門定制。通常配備硅變壓器。電源輸出電壓：0—750V可調。電源輸出大電流：5A、10A、30A、50A、100A等可選。

      2.氧化槽

      一般采用pp焊接槽即可，pp槽具有堅固耐用，防腐蝕。

      3.溶液冷卻和攪拌系統

      在微弧氧化過程中，會在工件表面產生瞬時高溫高壓，為了及時能帶走產生的熱量及平衡穩定氧化槽的溫度，必須配備外循環和熱交換方式，溶液的循環同時達到攪拌和冷卻槽液的目的。微弧氧化電源、微弧氧化生產線、微弧氧化技術

微弧氧化的發展

      由于微弧氧化是在陽極氧化膜被電ji穿的基礎上進行的，所以在探討微弧氧化機理時我們要結合電ji穿理論的研究和發展，從而闡述微弧氧化基本原理。微弧氧化技術就是在電ji穿理論的基礎上加以研究和應用的新型表面力一技術。自1932年Betz等觀察到電ji穿的現象以來，許多研究者都對電ji穿產生的原因 過各種各樣的假設和模型。總體上看，電ji穿理論經歷了離子電流機理、熱作用機理、機械作用機理以及電子雪崩機理等不同的發展階段。了解電ji穿原理，對于研究微弧氧化機理，開發新的表面處理技術均有著重要的理論意義。微弧氧化技術的原理及特點微弧氧化陶瓷技術是一種在鋁、鎂、鈦等輕金屬合金表面原位生長陶瓷層的高新技術。