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單工位噴淋清洗機

屬于清洗設備技術領域，為解決現有的噴淋清洗機工作效率低的問題而設計。本實用新型提供的單工位噴淋清洗機包括底座、位于所述底座上方的上料箱、設于所述上料箱一側的噴淋清洗裝置和儲液槽、用于夾緊待清洗的罐體的機械手、用于驅動所述機械手的驅動裝置以及控制系統，其中，所述儲液槽內設有撇油機構，頂部安裝有重力油水分離裝置，側壁可活動的連接有集油盒。本實用新型的單工位噴淋清洗機工作、操作和維修方便。

技術特征：

1.單工位旋轉噴淋清洗機，包括主體、主體中間的固定機構和主體底端的拆卸機構，其特征在于：所述固定機構包括固定柱(13)，所述主體的頂端設置有頂殼(1)，所述頂殼(1)的中間設置有操作門(7)，所述固定柱(13)位于操作門(7)的內側兩端，所述操作門(7)的一側對應于固定柱(13)的位置處設置有連接螺栓(14)，所述連接螺栓(14)的一側中間對應于固定柱(13)的內部設置有齒輪(15)，所述頂殼(1)的內部兩側對應于固定柱(13)的位置處設置有固定桿(3)，所述固定柱(13)的內部兩側對應于齒輪(15)的位置處設置有齒槽(16)。

2.根據權利要求1所述的單工位旋轉噴淋清洗機，其特征在于：所述拆卸機構包括限位板(21)，所述主體的底端中間設置有底座(6)，所述限位板(21)位于底座(6)的中間表面，所述底座(6)的一側中間設置有連接座(20)，所述限位板(21)的一側中間設置有限位螺栓(22)，所述底座(6)的內部一側對應于限位螺栓(22)的位置處開設有螺紋孔(17)，所述底座(6)的兩側對應于限位板(21)的位置處設置有限位滑槽(18)，所述限位滑槽(18)的一側對應于底座(6)的位置處設置有帽檐(19)。

單工位旋轉噴淋清洗機，其特征在于：所述限位滑槽(18)的橫截面為矩形，且限位滑槽(18)的寬度與限位板(21)的寬度一致。

單工位旋轉噴淋清洗機

根據權利要求1所述的單工位旋轉噴淋清洗機，其特征在于：所述主體包括清洗槽(4)，所述清洗槽(4)位于頂殼(1)的內部中間，所述清洗槽(4)的頂端對應于頂殼(1)的內部設置有旋轉噴塊(12)。

根據權利要求2所述的單工位旋轉噴淋清洗機，其特征在于：所述頂殼(1)的內部兩側設置有噴頭(2)，所述底座(6)的兩側對應于操作門(7)的位置處設置有支桿(5)。

根據權利要求4所述的單工位旋轉噴淋清洗機，其特征在于：所述頂殼(1)的一側設置有操作柜(11)，所述操作柜(11)的表面設置有操作按鈕(10)。

根據權利要求4所述的單工位旋轉噴淋清洗機，其特征在于：所述底座(6)的一側中間設置有電機(9)，所述電機(9)的底端對應于底座(6)的一側設置有空心管(8)。

此方法適用于除去氧化膜或有機物。因為化學物質在硅片表面停留的時間比較短，對反應需要一定時間的清洗效果不好。在噴洗過程中所使用的化學試劑很少，對控制成本及環境保護有利。

隨著集成電路制程工藝節點越來越先進，對實際制造的幾個環節也提出了新要求，清洗環節的重要性日益凸顯。

清洗的關鍵性則是由于隨著特征尺寸的不斷縮小，半導體對雜質含量越來越敏感，而半導體制造中不可避免會引入一些顆粒、有機物、金屬和氧化物等污染物。為了減少雜質對芯片良率的影響，實際生產中不僅僅需要提高單次的清洗效率，還需要在幾乎所有制程前后都頻繁的進行清洗，清洗步驟約占整體步驟的33%。