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微弧氧化技術

      在微弧氧化過程中，化學氧化、電化學氧化、等離子體氧化同時存在，因此陶瓷層的形成過程非常復雜，至今還沒有一個合理的模型能描述陶瓷層的形成。

      微弧氧化膜層與基體結合牢固，結構致密，韌性高，具有良好的耐磨、耐腐蝕、耐高溫沖擊和電絕緣等特性。微弧氧化技術具有操作簡單和易于實現膜層功能調節的特點，而且工藝不復雜，不造成環境污染，是一項全新的綠色環保型材料表面處理技術，在航空航天、機械、電子、裝飾等領域具有廣闊的應用前景。氧化膜的硬度一般能達到600-1500HV(膜層厚度20-50μm），耐磨性能優于硬質陽極化膜及電鍍硬鉻。

微弧氧化技術應用前景

      微弧氧化技術具有很多優點，如工藝簡單、不引入有毒物，符合當今清潔生產發展的要求，對要處理的零件形狀沒有特殊要求，特別是對異型零件、孔洞、焊縫的可加工能力強于其他表面陶瓷化工藝，因此微弧氧化技術在軍事、航空、航天、鐵路、機械、紡織、汽車、、電子、裝飾等許多領域有廣泛的應用前景。采用微弧氧化技術所制備的陶瓷膜同時具備了陽極氧化膜和陶瓷噴涂層兩者的優點，可以部分替代陽極氧化膜和陶瓷噴涂的產品。采用微弧氧化技術所制備的陶瓷膜同時具備了陽極氧化膜和陶瓷噴涂層兩者的優點，可以部分替代陽極氧化膜和陶瓷噴涂的產品。

       微弧氧化處理后形成陶瓷層表面顏色只有黑白兩色。嚴重制約了而上釉工藝可以在金屬表面涂上色彩并經過高溫燒結，形成耐磨，結合力好的表面處理。但是普通的低溫釉工藝，燒結溫度高達900度，鋁鎂金屬的熔點是600多度，因此嚴重制約了微弧氧化后處理的發展，對終端消費品外殼的客戶來說，彩色是必備的選擇。微弧氧化采用利用顯微硬度儀測量膜層表面顯微硬度曰利用環境掃描電子顯微鏡對微弧氧化陶瓷膜的表面、截面形貌以及微觀結構進行觀察。微弧氧化電源、微弧氧化生產線、微弧氧化技術、微弧氧化設備