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              光刻膠公司性價比出眾 北京賽米萊德

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              發(fā)布時間:2020-10-04 22:09  






              光刻膠的未來市場

              光刻膠市場需求逐年增加,2018年全球半導體光刻膠銷售額12.97億美元,而國內光刻膠需求量方面,2011年光刻膠需求量為3.51萬噸,到2017年需求量為7.99萬噸,年復合增長率達14.69%。

              國內光刻膠需求量遠大于本土產(chǎn)量,且差額逐年擴大。由于中國大陸光刻膠市場起步晚,目前技術水平相對落后,生產(chǎn)產(chǎn)能主要集中在PCB光刻膠、TN/STN-LCD光刻膠等中低端產(chǎn)品,TFT-LCD、半導體光刻膠等高技術壁壘產(chǎn)品產(chǎn)能很少。

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              光刻膠介紹

              光刻膠可分為半導體光刻膠、面板光刻膠和PCB光刻膠。其中,半導體光刻膠的技術壁壘較高。

              從技術水平來看,在PCB領域,國產(chǎn)光刻膠具備了一定的技術和量產(chǎn)能力,已經(jīng)實現(xiàn)對主流廠商大批量供貨。

              賽米萊德以誠信為首 ,服務至上為宗旨。公司生產(chǎn)、銷售光刻膠,公司擁有強大的銷售團隊和經(jīng)營理念。想要了解更多信息,趕快撥打圖片上的熱線電話!



              光刻膠

              在曝光過程中,正性膠通過感光化學反應,切斷樹脂聚合體主鏈和從鏈之間的聯(lián)系,達到削弱聚合體的目的,所以曝光后的光刻膠在隨后顯影處理中溶解度升高。曝光后的光刻膠溶解速度幾乎是未曝光的光刻膠溶解速度的10倍。而負性膠,在感光反應過程中主鏈的隨機十字鏈接更為緊密,并且從鏈下墜物增長,所以聚合體的溶解度降低。見正性膠在曝光區(qū)間顯影,負性膠則相反。負性膠由于曝光區(qū)間得到保留,漫射形成的輪廓使顯影后的圖像為上寬下窄的圖像,而正性膠相反,為下寬上窄的圖像。

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              光刻膠的成分

              樹脂:光刻樹脂是一種惰性的聚合物基質 ,是用來將其他材料聚合在一-起的粘合劑。 光刻膠的粘附性、膠膜厚度等都是樹脂給的。

              感光劑:感光劑是光刻膠的核心部分,他對光形式的輻射能,特別在紫外區(qū)會發(fā)生反應。曝光時間、光源所發(fā)射光線的強,度都根據(jù)感光劑的特性選擇決定的。

              溶劑:光刻膠中容量較大的成分,感光劑和添加劑都是固體物質,為了方便均勻的涂覆,要將他們加入溶劑進行溶解,形成液態(tài)物質,并且使之具有良好的流動性,可以通過選擇方式涂布在waf er表面。

              添加劑:用以改變光刻膠的某些特性,如改善光刻膠發(fā)生反射而添加染色劑。



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