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發布時間:2020-10-14 22:07  





直流二級離子鍍,是穩定的輝光放電;空心陰極離子鍍與熱絲弧離子鍍,是熱弧光放電,產生電子的原因均可簡單概括為金屬材料由于被加熱到很高的溫度,導致核外電子的熱發射;陰極電弧離子鍍的放電類型與前面幾種離子鍍的放電類型均不相同,它采用的是冷弧光放電。這么做不僅僅是為了增加產品的美觀程度,也可以很大程度上提升其使用壽命,所以在實際中得到了廣泛應用,成為當今公認的、能加工硬脆非金屬材料的工具。在眾多離子鍍膜技術中陰極電弧離子鍍可謂是其中的集大成者,其目前已經逐步發展為硬質薄膜領域的主力。
較為成熟的 PVD 方法主要有多弧鍍與磁控濺射鍍兩種方式。蒸發源接陽極,工件接陰極,當通以三至五千伏高壓直流電以后,蒸發源與工件之間產生輝光放電。多弧鍍設備結構簡單,容易操作。它的離子蒸發源靠電焊機電源供電即可工作,其引弧的過程也與電焊類似,具體地說,在一定工藝氣壓下,引弧針與蒸發離子源短暫接觸,斷開,使氣體放電。由于多弧鍍的成因主要是借助于不斷移動的弧斑,在蒸發源表面上連續形成熔池,使金屬蒸發后,沉積在基體上而得到薄膜層的,與磁控濺射相比,它不但有靶材利用率高,更具有金屬離子離化率高,薄膜與基體之間結合力強的優點。