多源蒸發鍍膜機廠家的行業須知

300D三源有機蒸發鍍膜機

主要用途：

特別適合OPV/鈣鈦礦/無機薄膜太陽能電池、半導體、有機EL、OLED顯示研究與開發領域。

系統組成:

主要由真空室系統蒸發室、蒸發源系統、樣品臺系統、 真空抽氣及測量系統、氣路系統、控制系統、膜厚測試 系統、電控系統組成。

技術指標：

極限真空度6.7×10-5Pa，系統漏率：1×10-7PaL/S； 恢復真空時間：40分鐘可達6.6×10 Pa（短時間暴露 大氣并充干燥氮氣后開始抽氣）

樣品臺：尺寸為4英寸平面樣品；

蒸發源：3套

4套擋板系統：擋板共有3套，動密封手動控制；

氣路系統:質量流量控制器1路

石英晶振膜厚控制儀：膜厚測量范圍0-999999?

可選分子泵組或者低溫泵組合渦旋干泵抽氣系統

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多源蒸發系統介紹

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系統主要用來生長EL OEL分子有機電致發光器件薄膜的研究工作　　

該類設備為雙室帶手套箱結構的有機、無機、多源有機、無機氣相分子沉積設備，采用直線式結構，由一個金屬材料生長、氧化物生長室、一個有機材料生長室和一個手套箱組成，金屬材料生長和氧化物生長室以及進樣室/氧化物生長室之間通過空氣鎖聯接，樣品通過帶遠程手控盒功能的電動磁力耦合裝置在兩個生長室之間手動傳遞。可選手套箱。電阻蒸發鍍膜機的結構以及特點結構和特點：結構可為立臥式雙開門結構，成膜速率快，色澤鮮亮，膜層不易受污染，可獲得致密性好、純度高、膜厚均勻的膜層，不產生廢液、廢水，可避免對環境污染，屬環保設備。