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              化學(xué)鍍硬鉻廠家詢問報(bào)價(jià) 宣城漢銘表面處理加工

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              發(fā)布時(shí)間:2020-10-19 19:40  






              ?高速鍍硬鉻的工藝詳解

              高速鍍硬鉻,蕞適合于鍍硬鉻,微裂紋鉻,也可用于光亮鉻等。應(yīng)用該添加劑及其工藝,質(zhì)量好、工藝穩(wěn)定、生產(chǎn)效率髙、節(jié)約電能、經(jīng)濟(jì)效益顯著。該工藝已在國(guó)內(nèi)幾十家大中型企業(yè)使用,涉及紡機(jī)、活塞環(huán)、彩印制版、鋼鐵工業(yè)、產(chǎn)品、日用五金、減震器等方面,取得效果,產(chǎn)品達(dá)水平,是普通鍍硬鉻產(chǎn)品的蕞佳替代品。

              工藝特點(diǎn):

              1、陰極電流效率髙,可達(dá)20-30%,節(jié)約電能。

              2、不含氟、無(wú)稀土、無(wú)陰極低電流密度區(qū)腐蝕。

              3、覆蓋能力強(qiáng),鍍層均勻。

              4、鍍層平滑、細(xì)致,十分光亮。

              5、鍍層硬度, 950-1100 HV。

              6、微裂紋數(shù)提高。

              7、微裂紋數(shù),在1000條/厘米,有較高的抗蝕性,有了上述特性,鍍層耐磨性能有顯著提高。

              8、沉積速度3-114μm/h。

              9、鍍液穩(wěn)定,易操作,易維護(hù)。

              10、 鍍層與基體結(jié)合力強(qiáng)。

              11、 有較高的抗蝕性。








              硬鉻工藝流程及要求:

              1、 除油:

              用專用除蠟水除油。

              2、 水洗:

              水洗需徹底:零件潤(rùn)濕需均勻。

              3、 除銹:

              用15%-20%的稀硫酸溶液除銹。

              4、 陽(yáng)極腐蝕:

              陽(yáng)極腐蝕工藝:

              鉻酐120-350 g/l,

              硫酸:10 g/l,

              陰極:與鍍鉻陽(yáng)極同,

              溫度:與鍍鉻溫度相同,

              電流:30-50A//dm2,

              時(shí)間:視基體而定。

              5、 鍍鉻:

              給電前預(yù)熱:使零件溫度接近或等于鍍液溫度。

              給電方式:鑄鐵件鍍鉻先用沖擊電流電鍍,然后再恢復(fù)到正常電流密度;合金鋼件鍍鉻采用階梯式給電;鉻上鍍鉻先進(jìn)行陽(yáng)極浸蝕然后階梯式給電。






              鍍硬鉻鍍表面粗糙,沉積速度慢

              產(chǎn)生原因:

              ①工件表面光潔度不夠

              ②鍍液有雜質(zhì)

              ③硫酸含量過高,鉻酐含量低

              ④陰極電流密度過大

              排除方法:

              ①提高鍍件光潔度

              ②根據(jù)情況處理鍍液

              ③調(diào)整鍍液成分至配方值

              ④降低陰極電流密度


              鍍層黑暗無(wú)光澤;表面全部有麻點(diǎn)

              ①三價(jià)鉻高

              ②硫酸不足

              ③有重金屬雜質(zhì)

              ①大陽(yáng)陰極電解

              ②根據(jù)分析補(bǔ)充硫酸

              ③沉淀重金屬







              鍍硬鉻過程中出現(xiàn)短時(shí)間斷電后,工件表面會(huì)形成較薄的氧化膜,通過階梯式給電活化基體表面后再繼續(xù)電鍍,可以保證鍍層的結(jié)合力,避免鍍層剝落。步驟如下:

              (1) 分別控制直流電壓和陰極電流密度為(3.5 ± 0.5) V 和(20 ± 5) A/dm2,以保證基體上僅有析氫反應(yīng)(以鍍槽內(nèi)輕微冒氣泡為準(zhǔn)),持續(xù) 5 ~ 10 min。初生態(tài)的氫原子具有很強(qiáng)的還原能力,能夠把金屬表面的氧化膜還原為金屬[。

              (2) 在 30 min 內(nèi)逐漸升高電流密度至 100 A/dm2,每 5 min 升高 20 A/dm2






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