鈦合金微弧氧化給您好的建議

微弧氧化電源

　　微弧氧化電源設備是一種高壓大電流輸出的特殊電源設備，輸出電壓范圍一般為0～600V；輸出電流的容量視加工工件的表面積而定，一般要求6～10A/dm2。電源要設置恒電壓和恒電流控制裝置，輸出波形視工藝條件可為直流、方波、鋸齒波等波形。微弧氧化是輕金屬在其特定的電解液及電場條件下，原位生長陶瓷膜的新技術。日照微弧氧化技術有限公司專業從事微弧氧化技術的研發以及設備的生產銷售，歡迎咨詢訂購。微弧氧化生產線、微弧氧化技術、微弧氧化電源

微弧氧化現象及特點

       在陽極氧化過程中，當鋁合金上施加的電壓超過一定范圍時，鋁合金表面的氧化膜就會被擊穿。為保證微弧氧化后制得陶瓷膜的綜合力學性能，在微弧氧化處理前要對試樣表面進行預處理。隨著電壓的繼續不斷升高，氧化膜的表面會出現輝光放電，微弧和火花放電燈現象。在微弧氧化的過程下，原來生產的氧化膜不會脫落，只有表面一部分氧化膜可能會被粉化而沉淀在溶液中，脫落的表面可以繼續氧化，隨著外加電壓的升高，或時間的延長，微弧氧化膜厚度會不斷增加，直至達到外加電壓所對應的終厚度。

       微弧氧化電源設備是一種高壓大電流輸出的特殊電源設備，輸出電壓范圍一般為0～600V；輸出電流的容量視加工工件的表面積而定，一般要求6～10A/dm2。電源要設置恒電壓和恒電流控制裝置，輸出波形視工藝條件可為直流、方波、鋸齒波等波形。該技術能夠極大地改善鋁、鎂、鈦合金的耐磨損、耐腐蝕、耐熱沖擊及絕緣性能。  微弧氧化膜層性能檢測儀器膜層的性能檢測包含三部分院厚度表征、硬度表征、形貌表征、相成分表征和表面粗糖度表征等。

微弧氧化工藝研究

        微弧氧化的工藝研究主要集中在電流密度、電解液組成、電源模式、基材成分等工藝因素對氧化膜的厚度、結構與性能的影響方面。微弧氧化技術微弧氧化工藝將工作區域由普通陽極氧化的法拉第區域引入到高壓放電區域，克服了硬質陽極氧化的缺陷，極大地提高了膜層的綜合性能。 指出，電流密度對微弧氧化膜厚度有著決定性影響。在含有濃度6%水玻璃的電解液中，使用工業交流電源，對兒種不同鋁合金，依零件的不同幾何形狀和尺寸，電流密度在1--50A / cm2范圍內，經60次微弧氧化實驗的結果表明，形成的氧化膜厚度與電流密度成線性關系。