脈沖激光沉積裝置報價免費咨詢「多圖」

PLD450型脈沖激光鍍膜介紹

以下是沈陽鵬程真空技術有限責任公司為您一起分享的內容，沈陽鵬程真空技術有限責任公司專業生產脈沖激光沉積，歡迎新老客戶蒞臨。

技術指標：

極限真空度：≤6.7×10 Pa　　

恢復真空時間：從1×10 Pa抽至5×10 Pa≤20min　　

系統漏率：6. 7×10-7Pa.L/S；　　

真空室：Ф450球型真空室 ，　　

基片尺寸：可放置4″可實現公轉換靶位描等基片加熱可連續回轉，轉速5-60轉/分基片與蒸發源之間距離300-350mm可調?！　?

二維掃描機械平臺，執行兩自由度掃描,控制的內容主要有公轉換靶、靶自轉、樣品自轉、樣品控溫、激光束掃,

質量流量控制器1路　　

烘烤溫度：150℃數顯自動熱偶控溫（高溫爐盤，數顯自動熱偶控溫可加熱到800℃）

脈沖激光沉積介紹

脈沖激光沉積也被稱為脈沖激光燒蝕（pulsed laser ablation，PLA），是一種利用激光對物體進行轟擊，然后將轟擊出來的物質沉淀在不同的襯底上，得到沉淀或者薄膜的一種手段。

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