廠房凈化工程品牌企業 專業團隊安徽科林爾

相對濕度越高,粘附的難去掉，但當相對濕度低于30%時，又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面，同時大量半導體器件容易發生擊穿。對于硅片生產溫度范圍為35—45%。1000級 一般只對塵埃濃度做要求，用于光學器件，儀器等高精儀器等10000級，用于液壓設備的生產，和一些食品飲料的生產。100000級，這個級別比較的低，對凈化度要求不是很高，主要在印刷廠，包裝廠等。潔凈室中的溫濕度控制。潔凈空間的溫濕度主要是根據工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到 人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。

具體工藝對溫度的要求以后還要列舉，但作為總的原則看，由于加工精度越來越精細，所以對溫度波動范圍的要求越來越小。例如在大規模集成電路生產的光刻工藝中，作為掩膜板材料的玻璃與硅片的熱膨脹系數的差要求越來越小。潔凈空間的壓力要高于非潔凈空間的壓力。潔凈度級別高的空間的壓力要高于相鄰的潔凈度級別低的空間的壓力。相通潔凈室之間的門要開向潔凈度級別高的房間"1級：主要應用于電子工業，這是目前對凈化工程要求高的環境，集成電路要求的精度要達到亞微米。隨著微電子工業技術領域的突飛猛進，對潔凈室的要求越來越高。及時生產間內的例子直徑僅有1微米，也會使產品壽命受到影響。

凈化工程技術的興起不過是上個世紀的事情，但今天凈化技術發揮著重要作用則是有目共睹的。隨著產品向著好的方向發展，對凈化車間的依賴度也越來越高。設計凈化系統組織的原則是相鄰二級過濾器的效率不能太接近，也不能相差太大。一般采用初效、中效、亞(或)三級過濾器。也可分四級，增加一級過濾器。在實際施工中，凈化項目通常分為，分工和分時。 這種安排有利于各種和工作類型的管理。 但是，易于進行多塵和無塵的交叉操作，應盡可能避免這種結構布置。 如果不可避免，應該防止灰塵和有效清潔。