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公司產(chǎn)品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶(hù)的構(gòu)想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高質(zhì)量掩膜版以及后期的代加工服務(wù)！

在用玻璃標(biāo)定板標(biāo)定時(shí)候都有遇到過(guò)標(biāo)定板反光問(wèn)題，有時(shí)候不能用背光源，只能用前置光源，光源投射下來(lái)，玻璃本身就是反光材料，燈光一亮反光嚴(yán)重，甚至導(dǎo)致無(wú)法標(biāo)定板。

光刻掩膜版材質(zhì)可分為石英掩膜版、蘇打掩膜版和其他（包含凸版、菲林）等。其中石英掩膜版和蘇打掩膜版為高校和科研院所光刻時(shí)所常用的光刻掩膜版。

光掩膜除了應(yīng)用于芯片制造外，還廣泛的應(yīng)用與像LCD，PCB等方面。常見(jiàn)的光掩膜的種類(lèi)有四種，鉻版(chrome)、干版，凸版、液體凸版。主要分兩個(gè)組成部分，基板和不透光材料。基板通常是高純度，低反射率，低熱膨脹系數(shù)的石英玻璃。鉻版的不透光層是通過(guò)濺射的方法鍍?cè)诓Ａ路胶窦s0.1um的鉻層。集成電路（英語(yǔ)：integratedcircuit，縮寫(xiě)：IC。鉻的硬度比玻璃略小，雖不易受損但有可能被玻璃所傷害。

光掩膜一般也稱(chēng)光罩，是微電子制造中光刻工藝所使用的圖形母版，由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形，并通過(guò)曝光將圖形轉(zhuǎn)印到產(chǎn)品基板上。光掩膜主要由兩部分組成：基板和不透光材料。

作為半導(dǎo)體、液晶顯示器制造過(guò)程中轉(zhuǎn)移電路圖形“底片”的高精密工具，光掩膜是半導(dǎo)體制程中非常關(guān)鍵的一環(huán)。