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發(fā)布時(shí)間:2021-07-28 19:22  







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在金屬內(nèi)部和半導(dǎo)體導(dǎo)帶相對(duì)應(yīng)的分能級(jí)上,電子密度小于半導(dǎo)體導(dǎo)帶的電子密度。因此,在二者接觸后,電子會(huì)從半導(dǎo)體向金屬擴(kuò)散,從而使金屬帶上負(fù)電荷,半導(dǎo)體帶正電荷。由于金屬是理想的導(dǎo)體,負(fù)電荷只分布在表面為原子大小的一個(gè)薄層之內(nèi)。而對(duì)于N型半導(dǎo)體來(lái)說(shuō),失去電子的施主雜質(zhì)原子成為正離子,則分布在較大的厚度之中。



ASEMI肖特基二極管與快恢復(fù)二極管有什么區(qū)別?
這是兩種工藝的芯片技術(shù),勢(shì)壘工藝肖特基二極管頻率比平面硅片的快恢復(fù)二極管更高,TRR參數(shù)只幾nS,基本忽略,正向?qū)妷旱停涣泓c(diǎn)幾伏(低自身功耗),但點(diǎn)壓不高,一般只能做到200V,現(xiàn)在ASEMI有做300V的MBR30200PT。更高的參數(shù)需求可以詳詢ASEMI在線客服。





關(guān)于肖特基二極管的應(yīng)用,ASEMI總結(jié)出以下幾點(diǎn):
肖特基二極管是以金屬和半導(dǎo)體接觸形成的勢(shì)壘為基礎(chǔ)的二極管,簡(jiǎn)稱肖特基二極管(Schottky Barrier Diode),具有正向壓降低(0.4—1.0V)、反向恢復(fù)時(shí)間很短(0-10納秒),而且反向漏電流較大,耐壓低,一般低于150V,多用于低電壓場(chǎng)合。